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原理: ETD-100AF 是高真空热蒸发式小型镀膜机。采用电阻式蒸发原理,利用大电流加热钼舟或钨丝蓝或固定支架上的镀膜材料,使其在高真空下蒸发,沉积在被镀样品上以获得zei佳镀膜效果。 适用范围: 电子显微镜样品制备和清洁光栏,以及科研、教学和企业中的实验活动、工艺试验。
配置和参数: * 真空室: 直径230mm,高度:280mm * 靶材料: 碳、金等。 * 电极(两对): 一对用于钼舟或钨丝栏,一对蒸碳。 * zei大电流: 100A * zei大电压: 10V * 极限真空: 1×10 Pa * 工作真空: 2×10 Pa * 加热功率: 1000W * 机械泵: 4 升/每秒,AC 220V/50Hz * 复合分子泵: 600升/秒,AC 220V/50Hz(风冷)
特点: 使用了大抽速、高压缩比、自然风冷却复合分子泵,确保喷镀时能够迅速抽掉蒸发源和样品放出的气体;正常情况下喷镀室内极少有油蒸气回流,非常清洁。 可蒸发的材料: 碳、金等。
ETD-100AF 热蒸发镀膜机,ETD-100AF
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