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Saphir Vibro振动抛光机为得到无残留变形的制备表面而设计,是用于进一步材料表征,如EBSD(背散射电子衍射),AFM (原子力显微镜)分析和纳米压痕或显微硬度测试的理想前序设备。
1)可快速更换的带磁性系统的抛光池
2)从60-120 Hz的自动频率控制
3)“Surface-Guard”功能降低试样磨料结晶和试样表面腐蚀的机率
4)预先安装好的制备方案和耗材清单
5)低工作噪音和吸振式结构设计
6)软闭合式防护罩和排气接口
7)可存储多达200个制备程序
抛光池内径
308 mm
抛光布直径
300 mm / 305 mm (12“)
接口
socket (depending on the
configuration)
· USB
· Ethernet
排气接口
Ø 40 mm
环境温度
10 - 40 °C
IP 码
IP 22
连接功率
0.25 kVA
驱动功率
135 VA
电源
220-240 V 50/60 Hz (1Ph/N/PE)
100-120 V 50/60 Hz (1Ph/N/PE)
宽 x高 x 深
510 x 300 x 590 mm
重量
(取决于设备)
≈ 45 kg
振动抛光机,SAPHIR Vibro
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