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仪器简介:
随着半导体制造工艺朝着高密度,高集成方向的迅速发展,科技研发人员将对RTP(Rapid Thermal Processing)的加热技术更加关注。MILA-5000系列红外线加热炉具有快速加热和快速冷却的功能,无环境污染等特长,并同高精的温度控制器组合为一体。对于记忆材料和强导电体相关的RTP研究工作,MILA-5000红外线加热炉将提供更广泛的测量领域。 ●用途 强诱导体薄膜的结晶化退火 注入离子后的扩散退火 半导体材料的烧成与退火条件研究 玻璃基板的均热退火 热循环试验与热冲击试验 升温脱离试验与触媒试验
●技术指标 型号 高温型 均热型 程序操作型 MILA5000-P-N MILA5000-P-F 温度范围 RT~1200℃(MAX) RT~800℃(MAX) 试样尺寸 20mm×20mm×2.0mmt(MAX) 20mm×20mm×2.0mmt(MAX) 温度传感器 K热电偶 K热电偶 电源容量 AC200V / 4KVA AC200V / 4KVA
温度升温速度快,精度高 ●特长 50/sec的快速加温 式样在保护管内加热,所以气氛可选择真空,各种气体,流动气体 式样温度与程序设定温度同时显示,可完成精密的温度控制
台式红外线灯管加热炉,MILA-5000系列
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