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管式炉设计用于材料沉积之用,广泛适用高、中、低温CVD工艺,例如:碳纳米管的研制、晶体硅基板镀膜、纳米氧化锌结构的可控生长等等;也可适用于金属材料的扩展焊接以及真空或保护气氛下热处理。产品特点:LGO加热元件提供了高效的热传导作用,保证炉内温度的均 匀性和快速升降温。耐用节能型加热元件,无需维护。独特的炉腔设计可以有效降低炉外表面温度。热反射元件形成高效中空保温层。紧凑型炉体外表面涂有耐热涂层。翻转式结构易于安装工作管。耐用型PlatinelRII热电偶带有10英尺长的导线和插头。 工作管直径:25.4-76.2mm(不同型号不同)。加热长度:609.6mm(不同型号不同)。数字型多段单程序三区温度控制器:三区或单区可设定单个程序;微处理控制为基础、带自我调节功能的PID控制器保证温度处理,防止过热;LED显示屏同时显示设定和实际温度;温控精确度:±0.3%。温度范围:100-1200℃。可选备供气系统,可以同时通入H2、N2、NH3、CH4和C2H2五种气体,五路气均带有316气体调压器(选件)。
Thermo 三区/单区 管式炉, HTF55347C-1
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