PHI Quantera II扫描聚焦XPS微探针

PHI Quantera II扫描XPS微探针是建基于业界荣获最多殊荣的Quantum 2000和Quantera SXM之上最新研发的XPS分析仪器，其革命性的技术包括：独创微聚焦X-ray源，可以得到世界最小至7.5μm的聚焦X-ray；专利的双束电荷中和技术，即使到各位数微米区域，依然能够有效中和样品荷电；五轴精密样品台及全自动样品传递手臂，可同时进样数百个样品；全自动支持互联网远程控制。这些革命性的技术，使XPS的应用范围从数百微米扩展至个位数微米，同时能够高效快速的处理各种样品，包括导体、绝缘体、磁性样品等

1.　扫描式聚焦X-ray设计，使7.5μm至1.4mm的分析区域内都可维持高性能的快速分析。

PHI Quantera II使用了PHI独创的扫描聚焦式X-ray源，配合升级版的单色聚焦石英晶体，对比上一代的最小X-ray束斑进一步减少20%至7.5μm。X-ray束斑从7.5μm至400μm范围内连续，配合扫描功能，使分析面积范围扩充至7.5μm~1400μm*1400μm。

PHI Quantera II同时配备高收集效能的静电式半球能量分析器，拥有大收集角度的同时，创新性的采用椭圆式的罗兰圆设计，极大的提高了能量分辨率。在空间分辨率、灵敏度、能量分辨率等指标上，堪称世界最强性能XPS系统。配合扫描X-ray高速同步扫描，真正意义上实现了单点、多点、线、面分析的最强功能。

2.　高灵敏度的分析能力

PHI Quantera II采用聚焦X-ray系统，在能量分析器的收集透镜端摒弃传统的光阑设计进行选区，最大可能的提升了光电子的收集效率，使其远远高出同类产品在200μm以下空间尺度的灵敏度，在30μm以下分区区域时，灵敏度高出非聚集XPS达100倍以上。同时，勿需采用磁透镜，保证了磁性样品分析时的灵敏度及避免了由磁透镜所带来的荷电中和困难，即使是磁性样品，也可轻松应对。在灵敏度提高的同时，极大的提高了分析效率，缩短分析时间。

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3.　占绝对优势的微区分析能力

传统的XPS在微区分析定位时，存在不能清晰观察样品的困难。PHI Quantera II通过X-ray激发样品产生二次电子影像（SXI），可由二次电子影像提供分析所用的全部细微特征。二次电子影像（SXI）与采谱过程采用相同的激发源、光电子经过相同的光学路径、使用同一探测器进行成像及获谱。避免了因为光学图像上选点与分析位置的偏差，保证了所见即所得的精确分析。

微小区域的高灵敏度分析不只在于表面分析，PHI Quantera II在微区深度剖析时，在相距只有几十微米的不同结构区域，都可有效提供超高灵敏度的分析结果。

4.　自动双束中和设计，使导体及非导体

双束中和采用低能电子束及低能离子束，在样品近表面形成类等离子体气氛，用来中和绝缘样品表面的荷电。这一专利的中和方式，使在分析不同类型样品时，无需重新设置中和参数，既能自动匹配提供稳健的电荷补偿功能。浮动柱状离子枪及冷阴极发射器可以在超低电压的条件下，提供最大的离子及电子密度流。

5.　逐点扫描的快速化学成像能力

通过扫描X-ray，可通过条件每点的扫描时间快速完成化学态成像。同时能够得到每个像素点的化学态信息。传统的XPS通常采用拍摄大量的化学态快照，通过数学计算得到微区谱信息。而PHI Quantera II真正意义上实现了在化学态成像图上获取数据谱信息，同时数据谱的空间分辨率、灵敏度及能量分辨率与仪器主指标一致。

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