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主要特点:
? 浸没式热场发射电子枪
提供高稳定的电子束束流,与最佳光栏角控制透镜配合获得高分辨图像.
? 电子束大电流高速分析
电子束最大束流强度200nA
? 离子束大电流模式
加工速度很快
? 实时监控加工过程
通过扫描电镜图像可以实时监控加工过程,提高了内部结构分析和获得TEM用薄膜样品的效率。
? 扩展性极强
大样品台最大装样直径50mm,并且可以同时安装EDS, EBSD, and CLD等探头
技术参数:
FIB
离子源:Ga(镓)液态金属离子源
保证分辨率: 5 nm 以下(加速电压 30 kV)
加速电压: 5 to 30 kV
放大倍数: x30 (广域)
x100 - x300,000
最大束流:30 nA
SEM
浸没式热场发射电子枪
保证分辨率: 1.2 nm (电压 30 kV)
加速电压: 0.2 to 30 kV
放大倍数:x50 - x1,000,000
最大束流: 200 nA
样品台移动范围: X:50mm , Y:50mm , Z:1.5~40mm , T:-5~70° , R:360°
日本电子 JIB-4600F 聚焦离子束,JIB-4600F
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