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仪器介绍: 欧洲专业的制造商,拥有20多年丰富的经验在:蒸发设备、溅射设备、等离子体增强化学气相沉积系统PECVD、等离子体刻蚀系统、感应耦合等离子体刻蚀系统、微波打胶机(去胶机)、反应等离子体灰化设备、微波等离子体增强化学气相沉积系统MPECVD等; 该微波等离子体增强化学气相沉积系统MPECVD系统,主要用于单晶、多晶金刚石薄膜的生长!
1.本底真空< 10-7 Torr 2.成膜均匀性:± 5% 3.zei大功率密度:80 W/cm3 4.微波电源:2.45GHZ,6kw (连续或者脉冲) 5.沉积速率:15 μm/h
1. 控制系统:计算机手动、半自动或者全自动控制;
2.腔体压力调节;
3.气体喷淋沉积方式;
4.可制备单晶、多晶金刚石薄膜,类金刚石薄膜DLC;
主要应用:
Tribologic coatings Optical windows Substrates Power electronics Heat dissipation Sensors
微波等离子体增强化学气相沉积系统,150
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