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ICP-MS是获得认可的痕量元素分析和定量的高效技术。 其应用范围从半导体工业到地质和环保分析、从生物研究到材料科学。 ICP-MS最严重的限制是元素信号的多原子干扰,这种干扰主要来自氩或样品基质。 高质量分辨率是识别和消除干扰的最佳标准。 即使没有样品制备步骤,消除干涉也能准确可靠地进行痕量级多元素定量分析。多元素分析
多元素检测器具备处理瞬态信号(包括CE、HPLC、GC、FFF和激光烧蚀)的速度
从超痕量到基质组分、从mg/L到亚pg/L浓度范围的覆盖周期表的无干扰测量
与无机和有机固体以及几乎所有溶液基质兼容
全自动的常规分析
自动调节所有参数,包括透镜、气流和炬位,以获得可重复而可靠的系统设置
全面、可定制的质量控制系统
可靠耐用,可作为全年无休的生产控制工具,最大化样品通量
具有灵活性和易用性的先进研究工具
拥有权限进入方法开发的所有仪器参数
具有高质量分辨率,可识别受干扰的同位素光谱: 生成明确的元素光谱
无论是否存在干扰情况,也能获得高精度的同位素比检测
热和冷等离子体状态
高稳定性的同位素比
美国热电ICP-MS, ICP-MS
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