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OTF-1200X-II-4CV-PE-SL 是一款滑动式双温区PECVD 管式炉系统。该系统包含500W等离子源, 80Dx1600L mm 滑动式双温区管式炉, 4通道质量流量供气系统和机械泵机组,这款 PECVD系统可用于生长纳米或石墨烯。
技术参数
2" (50mm) OD x 1.7" ID x 71" L
3.14" (80mm) OD x 2.83" ID x 71'' L
5" (130mm) OD x 4.8" ID x 84'' L
产品优点
与传统的CVD相比,只需较低的制备温度
.滑轨式可快速加热和快速冷却
两个加热区,温度梯度最大可达 200oC
最高工作温度1100°C
提供一个宽范围的材料制备 ,如碳和 ZnO 纳米管或纳米线以及单层石墨烯。
内炉膛表面涂有美国进口的高温氧化铝涂层可以提高设备的加热效率,同时也可以延长仪器的使用寿命
等离子发射源
输出功率: 5 -500W ± 1% .
射频频率: 13.56 MHz ±0.005% .
反射功率: 最大 200W
匹配: 自动
射频接口: 50 Ω, N-type
噪音: <50 dB.
冷却: 风冷.
电源: AC 208-240V, 50/60Hz
真空泵机组
我公司有多种真空泵可选,请点击图片,或是致电我公司销售
KFD25 快接,不锈钢波纹管,手动挡板阀与法兰,真空泵相连.
管内真空可达10E-2 Torr
防腐型真空计( 美国) 安装在左法兰上.
本公司进口的防腐型数字式真空显示计,其测量范围为3.8x10-5 至 1125 Torr. 不需因测量气体种类不同而需要系数转换。(点击图片查看详细介绍)
质量流量计
四个精密的质量流量计(精度0.02% ) :数字显示,自动控制.
MFC 1范围: 0~100 sccm
MFC 2和3: 0~200 sccm
MFC 4范围: 0~500 sccm
一个混气罐,底部装有泄废液口.
4 个不锈钢针阀安装在供气系统的左侧,可手动控制4种气体.
进气口: 4个1/4NPS.
出气口: 4个 1/4NPS.
控温软件
计算机可以通过控温软件控制炉子:RS485 接口和软件是免费的,但需要购买数据线和一个控制模块
为了获得较大的升温速度, 必须预热到设定温度,然后将炉子滑到样品位置。
为了获得较快的降温速度,可将加热的炉子从热区滑到冷区.
总尺寸
炉体: 550 x 380 x 520 mm
滑轨: 1750 mm 长
移动架: 1200 x 1200 x 600mm.
净重: 220 Lbs.
运输重量: 500lbs.
质保期和认证
一年质保期 (耗材部分:如炉管,“O”型高温密封圈,加热元件等不在保修范围)
CE认证
所有电器元件(>24V)都通过UL?/?MET?/?CSA认证
炉管内气压不可高于0.02MPa
由于气瓶内部气压较高,所以向炉管内通入气体时,气瓶上必须安装减压阀,建议在本公司选购减压阀,本公司减压阀量程为0.01MPa-0.1MPa,使用时会更加精确安全
当炉体温度高于1000℃时,炉管内不可处于真空状态,炉管内的气压需和大气压相当,保持在常压状态
进入炉管的气体流量需小于200SCCM,以避免冷的大气流对加热石英管的冲击
石英管的长时间使用温度<1100℃
对于样品加热的实验,不建议关闭炉管法兰端的抽气阀和进气阀使用。若需要关闭气阀对样品加热,则需时刻关注压力表的示数,若气压表示数大于0.02MPa,必须立刻打开泄气阀,以防意外发生(如炉管破裂,法兰飞出等)
滑动式双温区PECVD系统--OTF-1200X-II-4CV-PE-SL-UL, OTF-1200X-II-4CV-PE-SL-UL
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