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OTF-1200X-4-NW-UL是一款用于CVD实验的小型管式炉,常用生长纳米线和各种薄膜。设备左端设计有一反应前驱体预热区,并在预热炉体上安装有各种接口。可导入气体、液体和放入固体反应物。主反应炉体中有一3英寸的样品台,用于盛放基片,样品台与右端滑轨法兰连接,以便于实验操作。
技术参数
炉体和预热腔体
主反应炉体炉管尺寸:100mmO.Dx94mmI.Dx750mmL(石英管)
最高工作温度为1100℃
一个小型预热炉体,安装在设备左端,用于反应前驱体预热
预热腔体为30mmOD×150mmL的不锈钢管
右端安装有一滑轨法兰,以便于放样和取样
在预热炉体和主反应炉体之间有一水冷法兰
左端法兰上有4个气体接口(1/8英寸)(点击图片查看详细资料)
电源
单相, 220V AC, 50/60 Hz
最大功率
3.6KW(需要20A的空气开关)
加热区
主反应炉:440mm
恒温区:100mm
预热炉体:150mm
工作温度
主反应炉体:
最高工作温度:1100℃(<2hrs)
连续工作温度:1000℃
最大加热速率:20℃/min
预热区:
连续工作温度: RT~600℃
最大加热速率: 20℃/mi
温控系统
主反应炉体和预热炉分别由两个独立的温控系统控制
采用PID方式来调节温度,可设置30段升降温程序
采用K型热电偶
控温精度:+/- 1℃
可选购控温软件,可通过电脑来设置和显示温度程序
密封法兰
主反应炉体
右端法兰:
水冷却法兰,通过冷却循环水对密封圈进行水冷(可在本公司购买循环水冷机)
法兰上有KF25接口,可通过波纹管与真空泵相连接
炉体内的样品台与法兰相连接,并且右端法兰为滑轨法兰,以便于放样和取样
法兰上安装有一数显防腐真空计(如下图)
左端法兰(主反应炉体和预热炉体之间)
2个1/8英寸的接口安装在法兰上,可通过这两个接头独立将任何气体导入到主反应炉体中
1个1/8英寸的气体管道,将其气体通过预热腔体然后到主反应腔体中
重量
110kg
仪器尺寸
右端法兰关闭时的尺寸:1580mm×458mm×585mm(62"L X 18"W X 23"H)
右端法兰打开时的最大尺寸:2040mm×458mm×585mm(80"L X 18"W X 23"H)
CVD管式炉(含预热腔体)-- OTF-1200X-4-NW, OTF-1200X-4-NW
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