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VTC-2RF是一款小型的射频(RF)等离子体磁控溅射镀膜仪系统,系统中包含了所有所需的配件,如300W(13.5MHz)的RF电源、2"的磁控溅射头、石英真空腔体、真空泵和温度控制器等。对于制作一些金属薄膜及非金属薄膜,它是一款物美价廉的实验帮手。
技术参数
输入电源
220VAC 50/60Hz, 单相
800W (包括真空泵)
等离子源
一个300W,13.5MHz的射频电源安装在移动柜内
(点击图片查看详细资料)
磁控溅射头
一个 2英寸磁控溅射头(带有水冷夹层),采用快速接头与真空腔体相连接
靶材尺寸: 直径为50mm,最大厚度6.35mm
一个快速挡板安装在法兰上(手动操作,见图左3)
溅射头所需冷却水:流速10L/min(仪器中配有一台流速为16L/min的循环水冷机)
同时可选配1英寸溅射头
真空腔体
真空腔体:160 mm OD x 150 mm ID x 250mm H,采用高纯石英制作
密封法兰:直径为165 mm . 采用金属铝制作,采用硅胶密封圈密封
一个不锈钢网罩住整个石英腔体,以屏蔽等离子体
真空度:10-3 Torr (采用双极旋片真空泵)
10-5 torr (采涡旋分子泵)
载样台
载样台可旋转(为了制膜更加均匀)并可加热
载样台尺寸:直径50mm (最大可放置2英寸的基片)
旋转速度:1 - 20 rpm
样品的最高加热温度为700℃,(短期使用,恒温不超过1小时),长期使用温度500℃
控温精度+/- 10℃
300W射频等离子磁控溅射镀膜仪--VTC-2RF, VTC-2RF
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