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VTC-5RF是一款5靶头的等离子射频磁控溅射仪,针对于高通量MGI(材料基因组计划)薄膜的研究。特别适合用于探索固态电解质材料,通过5种元素,按16种不同配比组合。
技术参数
概念
5个溅射头安装5种不同材料
通过不同的溅射时间,5种材料可以溅射出不同组分的产物,
选择5个等离子射频电源,可在同一时间溅射5种材料
真空腔体中安装有旋转样品台,可以制作16个样品
电源
单相220 VAC, 50 / 60 Hz
射频电源
一个13.5MHz,300W自动匹配的射频电源安装在仪器上,并与靶头相连接
一个旋转开关可一次激活一个溅射头。溅射头可以在真空或等离子体环境中自动切换
可选购多个射频电源,同一时间溅射多个靶材。
所有的溅射参数,都可由电脑设置
直流电源(可选)
可选购直流电源,来溅射金属靶材
可配置5个直流或射频电源,来同时溅射5中靶材
磁控溅射头
5个1英寸的磁控溅射头,带有水冷夹层
可在本公司额外购买射频线
电动挡板安装在溅射腔体内
设备中配有一循环水冷机,水流量为10L/min
(1) (2) (3) (4)
溅射靶材
所要求靶材尺寸:直径为25.4mm,最大厚度3mm
溅射距离: 50 – 80 mm(可调)
溅射角度: 0 – 25°(可调)
配有铜靶和 Al2O3 靶,用于样品测试用
可在本公司购买各种靶材
实验时,需要将靶材和铜片粘合,可通过导电银浆粘合(可在本公司购买导电银浆)
真空腔体
真空腔体采用304不锈钢制作
腔体内部尺寸: 470mm L×445mm D×522mm H (~ 105 L)
铰链式腔门,直径为Φ380mm,上面安装有Φ150mm的玻璃窗口
真空度: 4E-5 torr (采用分子泵)
样品台
直径为150mm的样品台,上面覆盖一旋转台,带有10mm的孔洞,每次露出一个样品接收溅射成膜。
样品台尺寸:Φ150mm,可通过程序控制来旋转,可制作16种不同组分的薄膜
样品台可以加热,最高温度可达600℃
真空泵
设备中配有一小型涡旋分子泵
真空泵接口为KF40
石英振荡测厚仪(可选)
可选购精密石英振荡测厚仪,安装在真空腔体内,实时测量薄膜的厚度,精确度为0.1 ?(需水冷)
净重
60kg
质量认证
CE认证
质保
一年质保期,终生维护
应用注意事项
此款设备设置主要是在单晶基片上制作氧化物薄膜,所以不需要高真空的环境
所用气瓶上必须安装减压阀(可在本公司购买),所用Ar气纯度为5N
为了得到较好质量的薄膜,可以对基片进行清洗
用超声波清洗机,用丙酮或乙醇作为清洗介质,清除基片表面的油脂,然后在N2气或真空环境下对基片干燥
等离子清洗机,可使基片表面粗糙化,改变基片表面化学活性,清除表面污染物
可在基片表面镀上缓冲层,如Cr, Ti, Mo, Ta,,可改善金属或合金膜的粘附性
溅射一些非导电靶材,其靶材背后必须附上铜垫片
本公司实验室成功地在Al2O3基片上成功生长出ZnO外延膜
因为溅射头连接着高电压,所以用户在放入样品或更换靶材时,必须切断电源
不可用自来水作为冷却水,以防水垢堵塞水管。应该用等离子水,或专用冷却介质
5靶头等离子射频磁控溅射仪, VTC-5RF(针对于MGI薄膜研究)
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