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仪器简介:
双盘研磨和抛光机。可以选择单一转速250 rpm(-21)或变转速50~500 rpm(-25)。可以利用一个盘手动操作,另一个盘进行半自动制备。
主要特点:
- 使用简单方便; - 可以对研磨盘、精磨盘和抛光盘进行快速更换; - 采用耐腐蚀材料制作的台式机器; - 使用LaboForce-3或LaboForce-1试样推进器可实现自动试样制备。
司特尔研磨抛光机LaboPol-25/-21,司特尔研磨抛光机LaboPol-25/-21
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GME B 040 0180-2007 抛光磨
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