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仪器简介:光刻机/紫外曝光机 (Mask Aligner)原产国: 韩国,唯一能做到图形化蓝宝石衬底(PSS)光刻机,高性价比型号:KCMA-100;又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统,光刻机,紫外曝光机等;ECOPIA为全球领先的半导体设备供应商,多年来致力于掩模对准光刻机和匀胶机研发与生产,并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域;该公司是目前世界上最早将光刻机商品化的公司之一,拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力;并且其设备被众多著名企业、研发中心、研究所和高校所采用;以优秀的技术、精湛的工艺和良好的服务,赢得了用户的青睐。感谢南开大学,中科院半导体所,中科院长春应化所,中科院物理所,浙江师范大学使用此设备做课题研究!!此型号光刻机是所有进口设备中性能价格比最高的型号,达到欧美品牌的对准精度,CCD显示屏对准更为方便,液晶触摸屏操作,采用欧司朗紫外灯,寿命长。整机效果皮实耐用,正常使用3年内不会出问题!!目前,上海蓝光已采用该公司全自动型光刻机做LED量化生产,证明其品质达到LED产业标准要求!!而且已经成功提供图形化蓝宝石衬底(PSS)光刻工艺设备.技术参数:- 基片尺寸:4、6、8、12、25英寸,其他尺寸可定制;- 光束均匀性:<±3%;- 曝光时间可调范围:0.1 to 999.9秒;- 对准精度:0.6-1微米- 分辨率:1微米;- 光束输出强度:15-25mW/cm2;
主要特点:- 光源强度可控;- 紫外曝光,深紫外曝光(Option);- 系统控制:手动、半自动和全自动控制;- 曝光模式:真空接触模式(接触力可调),Proximity接近模式, 投影模式;- 真空吸盘范围可调;- 专利技术:可双面对准,可双面光刻,具有IR和CCD模式- 两个CCD显微镜系统,最大放大1000倍,显示屏直接调节,比传统目镜对准更方便快捷,易于操作。- 特殊的基底卡盘可定做;- 具有楔形补偿功能;
光刻机 / 紫外曝光机 (Mask Aligner), M-100
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