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产品简介:VTC-16-D小型直流磁控等离子溅射仪靶头尺寸为2英寸,且样品台的高度可以调节。此款镀膜仪设计主要是制作一些金属薄膜,最大制膜面积为4英寸。
产品型号
VTC-16-D小型直流磁控等离子溅射仪
主要特点
1、特别为SEM样品镀导电性薄膜设计。
2、体积小巧,操作简单,容易上手。
3、拥有小型磁控靶头,可以镀金银铂等金属。
技术参数
1、输入电源:220V AC 50/60Hz
2、功率:200W
3、输出电压:500 VDC
4、溅射电流:0-50 mA可调
5、溅射时间:0-120S可调
6、溅射腔体
1)采用石英腔体,尺寸:166 mm OD x 150 mm ID x 150 mm H
2)密封:采用不锈钢平法兰的O形密封圈
7、溅射头&样品台
l)溅射头可安装靶材直径为2英寸,厚度0.1 - 2.5mm
2)溅射时间1-120S可调
3)仪器中安装有直径为50mm的不锈钢样品台,其与溅射头之间距离30-80mm可调。
4)可选购加热型样品台,其最高加热温度为500℃
5)安装有一可手动操作的溅射挡板,可进行预溅射
6)最大可制膜的直径为:4英寸(仅供参考,详情请点击)
8、真空系统
l)安装有KF25真空接口
2)数字真空压力表(Pa)
3)此系统可通入气体运行
4)< 1.0E-2 Torr (采用机械泵)
5)< 1.0E-5 Torr(采用涡旋分子泵)
9、进气
l)设备上配1/4英寸进气口,方便连接气瓶
2)设备前面板上装有一气流调节旋钮,方便调节气流
10、靶材
l)靶材尺寸要求:Φ50mm×(0.1 - 2.5) mm(厚度)
2)设备标配为铜靶
11、产品外型尺寸
L460 mm × W 330 mm × H 540 mm
净重:20 kg(不包括泵)
可选
1、可在本公司选购各种靶材
对于溅射各种金属靶材,需要摸索最理想的溅射参数,下表是本公司实验所设置的参数,欢迎您带料来科晶实验室摸索工艺(仅供参考)
2、可在本公司选购各种真空泵
3、可在本公司选购薄膜测厚仪安装在溅射仪上
质量认证
CE认证
质保期
一年保修,终身技术支持。
特别提示:1.耗材部分如加热元件,石英管,样品坩埚等不包含在内。
2.因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内。
使用提示
l、有时为了达到理想的薄膜厚度,可能需要多次溅射镀膜
2、在溅射镀膜前,确保溅射头、靶材、基片和样品台的洁净
3、要达到薄膜与基底良好结合,请在溅射前清洁基材表面
4、超声波清洗(详细参数点击下面图片):(1)丙酮超声,(2)异丙醇超声-去除油脂,(3)吹氮气干燥,(4)真空烘箱除去水分。
5、等离子清洗(详细参数点击下面图片):可表面粗糙化,可激活表面化学键,可祛除额外的污染物。
6、制造一个薄的缓冲层(5纳米左右):如Gr,Ti,Mo,Ta,可以应用于改善金属和合金的附着力。
7、请使用>5N纯度氩气等离子体溅射
8、溅射镀膜机可以放入Ar或N2气体手套箱中溅射
9、由于能量低,该模型不适用于涂层的轻金属材料如Al,Mg,Zn,Ni。请考虑我们的磁控溅射镀膜机或热蒸发镀膜机。
警告
注意:产品内部安装有高压元件,禁止私自拆装,带电移动机体。
气瓶上应安装减压阀(不包括),保证气体的输出压力限制在0.02兆帕以下,以安全使用。
溅射头连接到高电压。
为了安全,操作者必须在关闭设备前装样和更换靶头。
VTC-16-D小型直流磁控等离子溅射仪,VTC-16-D
VTC-16-D小型直流磁控等离子溅射仪信息由沈阳科晶自动化设备有限公司为您提供,如您想了解更多关于VTC-16-D小型直流磁控等离子溅射仪报价、型号、参数等信息,欢迎来电或留言咨询。
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