您好,欢迎您查看分析测试百科网,请问有什么帮助您的?
如果企业客服不在线,也可拨打400电话联系。或者发布求购信息
产品简介:用于制备超导薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬薄膜等。广泛应用于大专院校、科研院所进行薄膜材料的科研与小批量制备。与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作及清理方便的优点,还具有蒸镀速率快,电子束定位准确能量密度高,可以避免坩埚材料的污染等特点。
产品型号
GSL-ZDDZS-500电子束蒸镀
安装条件
本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。
1、水:设备配有自循环冷却水机,水温小于25℃,水压0.25-0.4Mpa,流量高于12 l/min(加注纯净水或者去离子水);
2、电:AC380V 50Hz,功率大于10KW,波动范围:小于±6%,必须有良好接地(对地电阻小于2Ω);
3、气:设备腔室内需充注氮/氩气(纯度99.99%以上),需自备氮/氩气气瓶(自带?10mm双卡套接头)及减压阀
4、场地面积:设备尺寸2000mm×2000mm,承重1000kg以上
5、通风装置:需要(外排废气管道);
主要特点
1、由于电子束定位准确能量很高,可蒸发难熔金属或化合物,蒸发速率快;
2、体积小,操作简便可以非常容易的放置材料和清理;
3、蒸发材料放置在水冷铜坩埚中,可避免坩埚材料的污染,制备高纯薄膜;
4、由于蒸发物面积小,因而热辐射损失小,热效率高;
技术参数
1、极限真空度:≤6.67x10-5 Pa (经烘烤除气后);
2、系统真空检漏漏率:≤5.0x10-7 Pa.l/S;
3、系统短时间暴露大气并充干燥氮气后,再开始抽气,45分钟可达到6.6x10-4 Pa;
基片参数
1、基片尺寸:可放置φ4″基片(带手动挡板);
2、基片加热最高温度 800℃±1℃,由热电偶闭环反馈控制;
3、基片可连续回转,转速5~60转/分;
4、基片与蒸发源之间距离300~350mm可调;
电子束蒸发源参数
1、E型电子枪,阳极电压6KV、8KV;2、电子枪坩埚:水冷铜坩埚,四穴设计,每个熔炼11ml ;3、电子束功率0-6KW可调;
真空腔体
1、U型真空室尺寸Ф500X600mm,选用优质不锈钢材料制造,氩弧焊接,表面进行特殊工艺抛光处理,接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封;
2、真空腔体前开门铰链结构,方便取、放样品;
3、前开门设有两个观察窗接口,可以观察电子枪和基片;
4、设备预留膜厚仪接口,可选配膜厚仪;
5、高真空分子泵机组,闸板阀隔断(也可使用高真空挡板阀);
产品规格
整机尺寸:1800mm×1200mm×2000mm;
标准配件
1
电源控制系统
1套
2
真空获得机组
3
真空测量
4
电子枪
GSL-ZDDZS-500电子束蒸镀, GSL-ZDDZS-500
GSL-ZDDZS-500电子束蒸镀信息由沈阳科晶自动化设备有限公司为您提供,如您想了解更多关于GSL-ZDDZS-500电子束蒸镀报价、型号、参数等信息,欢迎来电或留言咨询。
VTC-200真空旋转涂膜机
群组论坛--近红外(NIR)
Copyright ©2007 ANTPedia, All Rights Reserved
京ICP备07018254号 京公网安备1101085018 电信与信息服务业务经营许可证:京ICP证110310号