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产品简介:1英寸高真空磁控溅射头HVMSS-SPC-1-LD可安装直径为1"的靶材。可与直流、脉冲直流和射频电源相匹配,因此可溅射各种靶材(如金属、陶瓷、磁性和非磁性靶材等)。且采用高真空的结构设计,可提高镀膜质量。
产品型号
1英寸高真空磁控溅射头HVMSS-SPC-1-LD
主要特点
1、采用高质量的不锈钢和陶瓷材料制作。
2、采用电磁场的有元计算法来设计永磁体,以得到较高的磁场强度和均匀分布。
3、磁体表面涂有保护层,以防止冷却水的腐蚀,延长其使用寿命。
4、标准的HN型接头,可与DC和RF电源相匹配。
5、安装采用标准真空接头,便于操作。
6、靶材更换较为简单,无需调整溅射头的高度。
7、配有铜靶1块。
技术参数
1、溅射头直径:?46.3mm
2、所用靶材:直径1"±0.02"(25.4mm),最大厚度1/8"(3mm)
3、磁环:NdFeB稀土永磁体
4、柄杆直径:外径3/4"
5、电路接头:标准HN型接头,可与DC和RF电源相匹配
6、所需功率:DC最大250W,RF最大100W
7、阴极溅射电流:最大3A
8、阴极溅射电压:200V-1000V
9、工作压力范围:1mtorr-1torr
10、溅射厚度均匀性:采用磁控溅射在氧化非晶硅片上沉积一个20nm的薄膜,直流功率150W,真空环境
10mtorr,1"铜靶,与基片距离75mm
11、水冷却:水管接头为外径0.25"快插头,所需水流量1/2GPM,进水温度<20℃
12、高真空快速接头:为赠送品,数量1个,内径为0.75",可将溅射头安装在真空腔体上,真空腔体上的安装
孔直径为1",真空腔体的壁厚不得大于1"
13、倾斜装置:溅射头相对于柄杆最大可倾斜±45?,设有刻度线,可观察到靶头倾斜的角度
产品规格
尺寸:14"(355.6mm);重量:1.36kg
可选配件
1、循环水冷机,流量为16L/min,水箱容积为6L。
2、100W小型手动匹配型射频电源RF-100-LD,可自行搭建溅射镀膜仪。
主要应用
在真空腔体中HVMSS-SPC-1-LD磁控溅射头可制作各种薄膜,应用如下:
薄膜涂覆、半导体器件、磁记录介质、超导薄膜、量子计算器件、MEMS、生物传感器、纳米技术、超晶格、颗粒膜、记忆合金、组合薄膜沉积、光学薄膜
1英寸高真空磁控溅射头HVMSS-SPC-1-LD, HVMSS-SPC-1-LD
1英寸高真空磁控溅射头HVMSS-SPC-1-LD信息由沈阳科晶自动化设备有限公司为您提供,如您想了解更多关于1英寸高真空磁控溅射头HVMSS-SPC-1-LD报价、型号、参数等信息,欢迎来电或留言咨询。
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