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产品简介:SE-L光谱椭偏仪是一款全自动高精度光谱椭偏仪,集众多科技专利技术,采用行业前沿创新技术,配置全自动测量模块。通过椭偏参数、 透射/反射率等参数的测量,快速实现光学参数薄膜和纳米结构的表征分析。SE-L光谱椭偏仪广泛应用于半导体薄膜结构:介电薄膜、金属薄膜、高分子、光刻胶、硅、PZT膜,激光二极管GaN和AlGaN、透明的电子器件、平板显示、光伏太阳能、功能性涂料、生物和化学工程、块状材料分析等领域。
产品型号
SE-L光谱椭偏仪
主要特点
1、高精度自动测量光学椭偏测量解决方案
2、全自动变角、调焦等控制平台,一键快速测量
3、软件交互式界面配合辅助向导式设计,易上手、操作便捷
4、丰富的数据库和几何结构模型库,保证强大数据分析能力
5、采用氘灯和卤素灯复合光源,光谱覆盖紫外到近红外范围 (193-2500nm)
6、高精度旋转补偿器调制、PCRSA配置,实现Psi/Delta光谱数据高速采集
7、全自动椭偏测量技术,基于行业领先电机控制技术,全自动调整测量角度,高精度控制样件台,实现样件快速自动对准找焦
8、颐光专利技术确保在宽光谱范围内,提供优质稳定的各波段光谱
9、数百种材料数据库、多种算法模型库,涵盖了目前绝大部分的光电材料
技术参数
1、自动化程度:自动变角
2、应用定位:自动型
3、基本功能:Psi/Delta、N/C/S、R/T等光谱
4、分析光谱:380-1000nm(可扩至193-2500nm)
5、单次测量时间:0.5-5s
6、重复性测量精度:0.01nm
7、光斑大小:大光斑2-3mm,微光斑200um
8、入射角调节方式:自动变角
9、入射角范围:45-90°
10、找焦方式:自动找焦
11、Mapping行程:支持100x100mm(可选配)
12、支持样件尺寸:最大至200mm
可选配置
波段选择
V:380-1000nm
UV:245-1000nm
XN:210-1650nm
DN+:193-2500nm
角度选择
自动:45-90°
其他选择
Mapping选择:100×100mm(供参考,按需定制)
温控台:室温一600℃(供参考,按需定制)
可选配件
1
温控台
2
3
4
光谱椭偏仪,SE-L
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