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产品简介:SE-VM 是一款高精度快速测量光谱椭偏仪。可通过椭偏参数、 透射/反射率等参数的测量,快速实现光学参数薄膜和纳米结构的表征分析,适用于薄膜材料的快速测量表征。支持多角度,微光斑,可视化调平系统等高兼容性灵活配置,多功能模块定制化设计。
高精度椭偏测量解决方案;超高精度、快速无损测量;支持多角度、微光斑、可视化调平系统功能模块灵活定制;丰富的数据库和几何结构模型库,保证强大数据分析能力。
广泛应用于镀膜工艺控制、tooling校正等测量应用,实现光学薄膜、纳米结构的光学常数和几何特征尺寸快速的表征分析。
产品型号
SE-VM光谱椭偏仪
主要特点
1、采用高性能进口复合光源,光谱覆盖可见到近红外范围 (380-1000nm)
2、高精度旋转补偿器调制、PCRSA配置,实现Psi/Delta光谱数据高速采集
3、支持系列配置灵活,可根据不同应用场景支持多功能模块化定制
4、数百种材料数据库、多种算法模型库,涵盖了目前绝大部分的光电材料
技术参数
1、自动化程度:手动变角
2、应用定位:通用型
3、基本功能:Psi/Delta、N/C/S、R/T等光谱
4、分析光谱380-1000nm(可扩至210-1650nm)
5、单次测量时间:0.5-5s
6、重复性測量精度:0.01nm
7、光斑大小:大光斑2-3mm,微光斑200μm
8、入射角调节方式:手动变角
9、入射角范围:55-75°(5°步进),90°
10、找焦方式:手动找焦
11、Mapping行程:不支持
12、支持样件尺寸:最大至180mm
可选配件
1
温控台
2
Mapping扩展模块
3
真空泵
4
透射吸附组件
光谱椭偏仪, SE-VM
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