NSC-4000（M）磁控溅射系统

NSC-4000（M）磁控溅射系统概述：带有水冷或者加热(可加热到700度)功能，可达8"旋转平台，可支持4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10^-7 Torr，15分钟内可以达到10^-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度。

NSC-4000带有13”铝质腔体，4个2”的磁控管，DC直流和RF射频电源。 在选配方面，我们提供不锈钢腔体，500 l/s涡轮分子泵，额外的磁控管和衬底加热功能。

NSC-4000（M）磁控溅射系统产品特点：

·         不锈钢，铝质腔体

·         260或500 l/s的涡轮分子泵，串接机械泵或干泵

·         13.56MHz，300-600W RF射频电源以及1KW DC直流电源

·         晶振夹具具有的<1 Å的厚度分辨率

·         带观察视窗的腔门易于上下载片

·         基于LabView软件的PC计算机控制

·         带密码保护功能的多级访问控制

·         完全的安全联锁功能

NSC-4000（M）选配项：

·         不锈钢腔体

·         热蒸镀能力

·         RF、DC溅射

·         RF或DC偏压（1000V）

·         样品台可加热到700°C

·         膜厚监测仪

·         基片的RF射频等离子清洗

·         预真空锁以及自动晶圆片上/下载片

NSC-4000（M）应用：

·         晶圆片、陶瓷片、玻璃白片以及磁头等的金属以及介质涂覆

·         光学以及ITO涂覆

·         带高温样品台和脉冲DC电源的硬涂覆

·         带RF射频等离子放电的反应溅射

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