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仪器简介:
MultiPrep™ 系统适用于高精微(光镜,SEM,TEM,AFM,etc)样品的半自动制备。主要性能包括平行抛光,精确角抛光,定址抛光或几种方式结合抛光。它保证良好的重现性,可以解决多用户使用的矛盾。 MultiPrep 无须手持样品,保证只有样品面与研磨剂接触。
技术参数:
• 测微计控制样品的设置 • 精确轴设计保证样品垂直于研磨盘,使之同时旋转。 • 数字千分表显示样品行程,增量1微米(实时) • 双轴测微计控制样品角坐标设置(斜度和摆度),10°幅度, 0.02° 增量。 • 6倍速样品自动摆动。 • 8倍速样品自动旋转。 • 样品调整范围:0-600克(100克增量) • 数字计时器与转速计 • 凸轮锁紧钳无需其他辅助工具,方便用户重新设置工作夹具。 • 符合CE标准 • 美国设计并制造
主要特点:
TechPrep™ 为MultiPrep™ 的定位装置提供电源。人性化的控制面板设计控制MultiPrep™所有功能。研磨盘转速范围(顺/逆时针)为5到350PRM。除触摸开关控制所有功能外,还有数字触摸键盘用于设置研磨盘速度、计时器、摆动与旋转设置。此系统用水符合冷却标准;自动滴液给料系统适用研磨悬浮液和润滑剂。
Allied MultiPrep 研磨抛光机, 15-2000-230
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