产地：美国navas

简介：

众所周知对于XRF分析仪，分析结果是否精确很大程度上取决于样品的制备。实验证明，玻璃熔片法相比于压片法能够大大的提升测量精度。

目前市场上使用的熔融炉非常笨重，非常依赖操作人员，并且很耗时。 每一次样品处理除了对硼酸和样品进行熔融以外，不能测量得到其他任何的数据信息，这种处理法就像是一种试验法。

NAWAS生产的熔融系统包含一个熔融炉，可以连接到PC或笔记本电脑。2个天平：位于炉子下方的天平用于LOI计算，外部天平用于测量坩埚，样品和通量重量，控制样品加载量。

NAWAS生产的熔融+LOI分析系统使得XRF样品预处理更简单，重复性更好，更独立，并且能够在熔融过程中得到数据信息，这些信息在之后的XRF分析会用到，大大的简化了分析过程，并且提高了

测量精度。

对于那些需要进行LOI分析的用户，AFS-5000可以同时实现16位LOI分析，仅仅需要增加适用于LOI分析的软件以及陶瓷或石英坩埚，最高温度可达1150℃。

规格参数:

样品位:2,4,6,8样品位可供选择

软件特色:程序数不受限制，支持数据库连接，输出TXT，CSV，XLS

文件到LIMS 和EXCEL

LOI 重量丢失和增加范围:0-100%

天平精度:0.1mg

LOI 精度:由天平分辨率决定

温度范围:200-1150℃±1℃

仪器控制:台式PC 或笔记本

尺寸（W×L×H）:55.4×60×57cm+33

重量:60kg

电源:220VAC（2KW）