Fischione 精密离子减薄仪1051 TEM Mill

TEM Mill作为采用尖端技术制造的精密离子研磨及抛光系统，提供可靠、高性能的样品制备能力，能够为透射电镜制备满足电子束穿透的大面积薄区样品，同时具备紧凑、精确以及高稳定性的优点。

离子抛光技术简介

离子抛光技术通常采用惰性气体氩，通过将氩气离子化后，在电场加速作用下轰击到样品表面，利用动量转移的方式进行可控速率条件下，物理溅射轰击的方式对样品表面进行精细抛光处理，满足扫描电镜/EBSD等表面敏感分析技术制样需求。

性能特点

·两支独立可调电磁聚焦离子枪

·同时具备高能量(快速抛光)和低能量(精细修复)

·超宽加速电压范围：100eV到10kV，不同加速电压下，离子束束斑均保持最细最优束斑状态

·每支离子枪均配备对应法拉第杯进行离子束直接探测

·采用可调节10英寸触屏控制系统，人机界面友好，操作简洁

·自动独立气源控制

·减薄角度范围：-15°到+10°连续可调

·样品载台X-Y可调，可根据需要调整样品减薄位置

·具备原位实时观察及记录减薄过程功能

·样品可360°连续旋转或摇摆，离子束自动避让样品夹

·可通过时间、温度以及透光性自动停止

·可选液氮冷台配置，去除热效应对样品的损伤

·可选真空或惰性气体转移装置，隔绝样品与水氧接触

离子源   

1.两支TrueFocus聚焦离子源

2.可调节能量范围100eV到10keV，

3.最大束流密度可达10mA/cm2

4.减薄角度 -15°到 +10°连续可调

5.可选择单枪或双枪工作模式

6.两支离子枪能量可独立调节

7.可选手动或自动马达离子枪

8.离子東角度、束斑大小均可调节

样品台   

·样品尺寸: 3 mm 直径x250 µm厚度

·360°旋转且转速可调

·同时样品台可摇摆磁编码器提供绝对定位精度

液氮冷台  

1.可选液氮冷台设计，冷却时间分为3-5小时及18小时以上两种，最低温度<-170℃

2.具备自动程序化控温设计

成像结果