Agilent安捷伦Agilent 5800 ICP-OES电感耦合等离子体发射光谱仪

安捷伦5800 VDV ICP-OES特点和优势介绍：

一、前沿光学加工技术打造独一无二的先进光学系统，

自由曲面（FreeForm）准直镜，是 安捷伦5800 ICP-OES 核心特点之一。采用先进的磁流变抛光技术，经过 37 道工序制作而成了纳米级别加工精度的自由曲面准直镜。NASA在天文望眼镜的成像上采用了自由曲面光学技术。自由（曲面）形式的光学技术使得望远镜的镜片几乎可以做成任何形状，这可以在更大的视野范围内提高成像质量。在分析仪器行业采用自由曲面光学系统的设计，目的也很明确；就是使仪器小型化同时提升成像质量、提升仪器的性能。

安捷伦采用了磁流变研磨加工的手段，将NASA的前沿科技应用于仪器的制造和小型化。使得仪器的性能和技术水平上了一个新的台阶。这对未来的仪器生产和技术进步带来了质的飞跃。因为传统的光学加工技术，已经无法完全满足分析仪器对测试灵敏度、精度、成像质量、分辨率的严苛要求。以及进一步的集成化、智能化、小型化、模块化等设计要求。相对于传统准直镜，“FreeForm”准直镜拥有独一无二的“自由曲面”，最佳地匹配了波长的范围，使得每一波段都可均匀准直并准确聚焦，消除了像散和聚焦的边缘效应，元素信号光斑更加紧凑，形状更优异，高通量高灵敏度地进入检测器。

二、 垂直炬管-双向观测

    安捷伦 5800 VDV是采用垂直炬管设计的真正的双向观测ICP-OES。传统的主流双向观测ICP-OES全部采用炬管水平放置，炬管水平放置一方面限制了等离子体最高功率的使用范围（某些水平炬管双向观测仪器的功率范围往往都限制的较低），导致复杂基体的样品的测定无法获得最佳的功率条件；更为重要的是炬管水平放置基体耐受性较差，容易造成中心管积盐堵塞，不但增加了炬管的清洗频率、而且大大降低了炬管的使用寿命。安捷伦5800VDV ICP-OES仪器推出的目的是为了解决老式水平炬管放置的双向观测的ICP-OES 耐盐度差、线性范围窄、炬管寿命低的问题；采用垂直炬管-双向观测的设计，即保证具有轴向观测的灵敏度，同时垂直炬管的设计方式又具有极大的基体承载优势，即使面对最为棘手的复杂样品：从高基质、高盐样品到挥发性有机溶剂，均可获得无与伦比的稳定测量结果。

三、特别定制专利全谱CCD 检测器——最快的检测速度

专利设计定制的Vista Chip Ⅲ CCD 固态检测器全波段覆盖、智能防溢出设计，具有最快的信号处理速度，极宽的动态范围；整个检测器为充气密封，无需氩气气体吹扫检测器表面， 开机即可点火，快速启动分析工作，提高分析效率，节省氩气消耗；检测器密封，使其损坏的风险降至最低。采用专利的成像匹配技术（I-MAP)，使光谱的谱线与像素精确拟合，全波段覆盖所有分析谱线；与分段式CCD 不同，Vista Chip Ⅲ 每个象素都具有防溢出保护,确保彻底解决溢出问题；具有1MHZ 最快速像素读取速度，同时可对检测器双面读取，最短1s 内读取167~785nm 内所有谱线；智能化自适应积分，同时以最佳信噪比获得高强度信号和弱信号，扩展了仪器的线性范围；相对于CID 检测器开机需氩气长时间吹扫，Vista Chip Ⅲ CCD 固态检测器采用全密封设计，无需气体吹扫，启动速度更快，更加节省氩气。

四、 5800 VDV ICP-OES 全部气体均使用高精度质量流量计MFC 控制

ICP-OES 分析结果的重现性和测定的长期稳定性是评价测试结果的关键参数，而等离子体的稳定性决定整台ICP-OES 的稳定性，等离子体的气体流量的控制精度是决定等离子体稳定性的重要因素。安捷伦 将成熟的ICP-MS 气路控制模块运用到最新5800 VDV ICP-OES 上，将影响等离子体的冷却气、辅助气、雾化气气体全部采用高精度的质量流量计控制，计算机软件调节；保证ICP-OES 在最复杂样品下实现最佳的参数优化和拥有最好的稳定性。

五、恒温光室设计

安捷伦 5800 VDV ICP-OES 采用中阶梯光栅+CaF2棱镜构成二维交叉色散系统，整个光学系统35℃恒温且无任何可移动部件，最大程度保证了光学系统的稳定性；CaF2棱镜最大长度的降低了棱镜对紫外区的吸收，保证紫外区具有优异的灵敏度；无需狭缝的切换或紫外和可见的分开读数，一次读数全部谱线一起给出结果，保证最大的光通量和最快的分析速度，是真正的全谱直读型仪器。

六、功能强劲的专利变频发生器系统

安捷伦 5800 VDV ICP-OES采用专利设计的27MHz的固态变频发生器，功率输出范围为750W-1500W ， 10W 增量，耦合效率＞75%，无需二次耦合， 功率输出稳定性优于0.1%；专利的变频设计使得在样品基体改变时，可以快速变频耦合，消除反射功率，保证稳定的功率输出，以确保样品基体突变时仍然可以维持稳定的等离子体，确保获得准确的结果。

七、专利的冷锥接口 (CCI) 技术，最大限度减少干扰，提升仪器性能

安捷伦 5800 VDV 采用专利的CCI 冷锥接口技术去除尾焰干扰，冷锥接口消除干扰被公认为消除尾焰最为彻底和有效的技术，相对于空气切割需要额外气体消耗、且无法克服空气中的氧气对紫外区元素的吸收，导致紫外区元素灵敏度较低的问题和加长炬管的方式容易导致烧坏炬管的问题，冷锥接口基本没有后期维护和消耗。安捷伦 5800 VDV ICP-OES采用成熟的冷锥技术，最大限度的减少了尾焰对轴向观测测的影响，降低用户拥有和使用消耗，确保仪器性能。

八、智能软件，助你夺回浪费的时间

a. 避免导致ICP-OES 点火失败的常见问题，实现提前诊断

点火：屏幕上的提示会提醒您注意避免造成等离子体点火失败的常见问题，通过内置传感器实现提前诊断。在等离子体点火前，智能工具通过内置传感器会找到导致点火失败的原因，比如蠕动泵，炬管等需要维护，并提示原因。

雾化器：雾化器堵塞会浪费您的时间并产生故障排除费用。而这一切完全可以避免。5800 系统能够持续监控雾化器，并在雾化器需要清洁或发生泄漏时提醒用户。

b. 通过适量维护避免停机和时间浪费

5800 系统包括传感器和计数器，能够在系统需要维护时为用 户提供指导，因此您可以在方便的时间安排维护，而不必中断工作进程，最重要的是， 它能够帮助您最大程度延长仪器正常运行时间。 计数器的颜色标记直观地显示了哪些维护活动应当立即执行，哪些可以 等待。

c. 深入了解样品组成及其元素最佳波长选择

测量各个样品时，IntelliQuant 将采集整个波长范围内的数据，然后利用这些丰富的数据，计算样品中多达 70 种元素的大致浓度。IntelliQuant 不仅能采集指定波长下的数据，而且能够识别光谱干扰并为您提供建议，确保您每次都能获得正确的答案。 运行未知样品或非典型样品时，将 IntelliQuant 应用到您的工作中，助您轻松应对方法开发、故障排除和样品筛查挑战。

d. 方法开发最佳工具IntelliQuant Screening

IntelliQuant Screening 是一种独特而强大的方法开发工具，针对不同的基体样品，快速的实现全元素扫描，实时反馈，根据不同基体样品和不同元素波长的各种干扰判断，自动选择最佳元素波长，可以把选定的波长直接导入定量工作表开始定量分析，还可以针对不同基体和不同的标准创建模板，让结果更精确。常规测量样品批次的趋势分析。例如，对土壤、机油或电镀液的趋势分析。

九、集成化高级阀系统

    安捷伦 5800 VDV 选配高级阀系统AVS 6/AVS 7在进样系统中,利用软件集成控制的稳定高速泵系统。AVS 6/7 在下一个样品进入仪器的同时冲洗样品引入系统，几乎避免了常规 ICP-OES 分析的延迟，大幅提高了样品通量。更短的分析时间意味着每个样品的氩气消耗量可减少至少 50%，延长消耗品的使用寿命，进一步降低运行成本。样品和冲洗溶液间精准的氩气气泡注入，可防止样品与冲洗溶液混合，缩短样品提升和冲洗时间，保证高精度测定。是复杂基体的高通量实验室的理想选择。

十、全中文智能化工作软件

全新安捷伦 ICP Expert 软件系统采用人性化的工作表界面设计、软件程序流畅易懂，方法开发简单快捷；可对仪器进行全自动控制，实现参数优化，自动诊断、智能积分等智能化功能；并可预设模版式软件程序，极大地节省了时间；功能强大的软件中具有最全的干扰校模式：干扰系数校正法、左右背景扣除法、Fitted自动智能背景扣除技术、FACT 快速自动谱线拟合技术；可以有效的解决复杂的光谱干扰，确保复杂基体分析能获得更为准确的结果；中文在线帮助功能和多媒体操作维护录像， 使用起来更加方便、更容易上手。“仪表盘”式的仪器状况实时监控，最大化仪器正常运行的时间。

十一、仪器性能

1、 长期稳定性：8小时，RSD≤1%（不加内标，不采用基线飘移修正）；

2、 短期稳定性：RSD≤0.5%；

3、 分析速度：60个元素或波长，每个元素或波长积分时间10秒，测试时间小于60秒，内标和待测元素必须同时积分；

4、 测定谱线的线性动态范围：≥10^6（以Mn257.610nm 来测定，相关系数≥0.9996）；

十二、仪器综合描述

仪器整体体积：625*740*887（W*D*H），占地面积：0.45㎡，极大的节省了用户空间；所有的连接和控制均在仪器的前面及侧面进行，仪器背面无需预留大的维护空间，更进一步节省实验室空间。仪器整体功率：耗电量：2.9KVA，是所有ICP-OES中耗电量最低的，最大程度上节省了用户的使用成本。