位置: 仪器谱首页 > 电子束刻蚀系统 > 脉冲电子束沉积系统
   位置: 仪器谱首页 > 电子束刻蚀系统 > 脉冲电子束沉积系统

脉冲电子束沉积系统(Neocera)

北京正通远恒科技有限公司

脉冲电子束沉积系统应用,脉冲电子束沉积系统报价,脉冲电子束沉积系统参数,电子束刻蚀系统报价,

脉冲电子束沉积(Pulsed Electron Deposition)是高能脉冲(100ns) 电子束( 约1000 A,15 keV) 在靶材上穿透将近1 um,使靶材快速蒸发形成等离子体。对靶材的非平衡提取(烧灼)使等离子体的组成与靶材的化学计量组成一致。在最佳条件下,靶材的化学计量与沉积薄膜的保持一致。所有的固态材料如金属、半导体和绝缘体等都可以用PED 技术沉积各自的薄膜。

同类仪器排行
指数 型号 品牌 PIPES指数
Pioneer 180 PED System
Neocera
美国
暂无样本
面议
获取底价 试用

咨询电话: 400-6699-117 转 9349