卧式低温恒温水浴锅CHDCW-3506技术参数:
型号 温度范围(℃) 温度波动度(℃) 工作槽容积(mm3) 工作槽开口(mm2) 槽深度(mm) 循环泵流量(L/min) 排水
CHDCW-0506-5~10 0.02~0.05 250×200×150 180×160 150 6 有
CHDCW-0510-5~10 0.02~0.05 250×200×200 180×160 200 6 有
CHDCW-1006-10~10 0.02~0.05 250×200×150 180×160 150 6 有
CHDCW-1008-10~10 0.02~0.05 280×250×140 235×180 140 6 有
CHDCW-1010-10~10 0.02~0.05 250×200×200 180×160 200 6 有
CHDCW-1015-10~10 0.02~0.05 280×250×220 235×180 220 6 有
CHDCW-2006-20~10 0.02~0.05 250×200×150 180×160 150 6 有
CHDCW-2008-20~10 0.02~0.05 280×250×140 235×180 140 6 有
CHDCW-2010-20~10 0.02~0.05 250×200×200 180×160 200 6 有
CHDCW-2015-20~10 0.02~0.05 280×250×220 235×180 200 6 有
CHDCW-3006-30~10 0.02~0.05 250×200×150 180×160 150 6 有
CHDCW-3008-30~10 0.02~0.05 280×250×140 235×180 140 6 有
CHDCW-3010-30~10 0.02~0.05 250×200×200 180×140 200 6 有
CHDCW-3506-35~10 0.02~0.05 250×200×150 180×140 150 6 有
CHDCW-3510-35~10 0.02~0.05 250×200×200 180×140 200 6 有
CHDCW-4006-40~10 0.02~0.05 250×200×150 180×140 150 6 有
●以下为卧式低温恒温槽可选配功能
1.可选配通讯接口与PC机同步操作。
2.可选配内置1~30段的程序进行温度控制,自动程序控温,实时显示设定温度及时间程序运行状态
3.可选配外接温度传感器功能,实现内外温度设定,可监测和控制外循环时外部装置体系的温度。
4.可选配重新布局槽体内置的冷却盘管,对反应槽的放热反应进行控制。
5.可选配设计安装磁力搅拌功能,无需外接立式搅拌机,操作简单方便,可以实现全封闭恒温下的搅拌反应。
6.脚轮可以根据客户要求加装,拆卸方便
7.接受各种尺寸规格或者特殊要求产品的定做
卧式低温恒温水浴锅CHDCW-3506低温恒温槽原理是:
加热系统采用不锈钢加热管,加热管使用L型,发热端位于底部,其优点是便于在加热管损坏时易于更换。由于在制冷时有冷凝水产生,所以加热管接头部分要用密封胶密封,以免在接头部分因为有冷凝水而产生漏电现象(在加热状态时没有此现象发生)。低温恒温槽
制冷系统是采用铜管制作成蒸发器,为了提高电能利用率,将蒸发器直接置于水槽内,大大提高了制冷速率。原理:制冷系统由4个基本部分即压缩机、冷凝器、节流器、蒸发器组成。由铜管将四大件按yi定顺序连接成一个封闭系统,系统内充注yi定量的制冷剂。一般用制冷剂为氟里昂,以往通常采用的是R134,采用新型的环保型制冷剂R407。压缩机吸入来自蒸发器的低温低压的氟里昂气体,经压缩机压缩成高温高压的氟里昂气体(此时对外散发热量),然后流经热力膨胀阀(毛细管),节流成低温低压的氟里昂气液两相(气体和液体混合物)物体,此时该混合物流进蒸发器时空间瞬间变大,液体全部变成气体,在变化过程中制冷剂要吸收大量热量,从而降低水槽内的水温,此时又成为低温低压的氟里昂气体,低温低压的氟里昂气体又被压缩机吸人。如此压缩-----冷凝----节流----蒸发反复循环,制冷剂不断带走水槽内的热量,从而降低了水的温度。为了提高水温均匀性,同时为了建立外循环(第二恒温场)加入水循环系统,根据水槽大小和需要的循环量而选择不同流量的循环泵可控硅,是可控硅整流元件的简称,是一种具有三个PN结的四层结构的大功率半导体器件,亦称为晶闸管。具有体积小、结构相对简单、功能强等特点,是比较常用的半导体器件之一。该器件被广泛应用于各种电子设备和电子产品中,多用来作可控整流、逆变、变频、调压、无触点开关等卧式低温恒温水浴锅CHDCW-3506采用可控硅的结构和性能。无论外形如何,可控硅的管芯都由四层P1N1P2N2结构组成,包括三个PN结(J1、J2、J3)。阳极A引出自J1结构的P1层,阴极K引出自N2层,而控制端G引出自P2层,使其成为一种四层三端的半导体器件。它可以通过毫安级电流控制大功率的机电设备。具有导通和关断两种状态,功率放大倍数高,反应快,无触点运行,效率高。可控硅也有一些弱点,如过载能力较差和易受干扰误导通等。可控硅常用的触发电路有阻容移相桥触发电路、单结晶体管触发电路和晶体三管触发电路等。在性能上,可控硅还具有比硅整流元件更为可贵的可控性。电源功率应大于或等于总功率,并且必须具有良好的接地装置。结束使用后,记得将所有开关关闭并拔出电源插头。
低温槽在实验室中有着广泛的应用,提供恒定的温度环境以对实验样品进行温度控制或测试。低温槽的使用寿命与所采用的原理和器材质量有关,采用低温恒温槽的恒温控制可以更好地延长其使用寿命。高低温恒温槽可分为内循环和外循环,能够在很大程度上满足用户的需求。未来的低温恒温槽控温精度可能会提高,器材材质也可能会更新换代以提升整体性能。在未来,我们期待低温恒温槽能够在控温精度和温控性能上有更大的突破。 在仪器的程序控温发展方面将有很大的进步。
现今,低温恒温槽通常采用多段程序控温来实现所需的低温环境。
未来可能会有更先进的程序来实现同样效果。
水浴/油浴 卧式低温恒温水浴锅CHDCW-3506 CHDCW-3506, CHDCW-3506
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