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Q150V Plus系列镀膜仪适用于高真空应用中的超精细导电镀膜
Q150V Plus针对高真空应用进行了进一步优化,最终真空度优于1×10-6mbar,同时配置全量程规,能够溅射具有晶粒尺寸更细的金属膜,适用于超高分辨率成像。得益于更低的背景真空,能够有效的从腔室中去除氧气、氮气和水蒸气避免了溅射过程中的化学反应,有效的消除镀层中的杂质或缺陷。能够实现制备低散射高纯度金属膜以及高密度的非晶碳膜等。Q150V Plus提供了Q150T Plus的所有功能,同时具有更精细的晶粒尺寸和更薄的镀层,适用于超高分辨率成像应用。
Q150V Plus 系列镀膜仪,Q150V Plus
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临界点干燥仪 K850WM
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