马尔文帕纳科 Insitec 干法 在线粒度仪

工业化设计技术成熟的在线粒度仪

可在苛刻工业环境中使用的Insitec干式颗粒粒度分析仪，采用激光衍射技术测量0.1 µm至2500 µm的颗粒粒度。 Insitec干式分析仪通过选件进行配置，适合各种实际的干式颗粒工艺，提供24小时实时监测与控制，可用于：

• 粉尘区域危险环境

• 气体或粉尘区域危险环境

• 移动式应用

• 研磨材料

• 制药工艺

概述

Insitec干法在线粒度仪提供全自动化实时或手动近线粒度测量，不管是连续或批量生产，气载或重力输送的管道。 可监控的工艺范围包括：研磨粉到食品、精细的化学品以及卫生标准严格且遵守苛刻规章制度的制药业。 为了保证代表性取样，无论是中试规模还是商业规模，定制的工艺界面可满足客户的需求。 每款Insitec干法系统均具有以下特点：

• 模型硬件依据GAMP5标准及CIP/SIP要求制造，符合特定的制造规程

• 简单易用的软件及全自动化运行，降低培训要求同时解放人力

• 与现有控制平台整合，简化自动化控制协议的开发

• 可靠性高达95%以上，几乎无停机，降低维护需求的同时提升投资回报率

• 粒度范围为0.1到2500微米

• 多重散射校正技术用于高浓度的粒度分析

• 系统扫描周期250毫秒（可调），每分钟检测数千至数百万个颗粒

• 运用苛刻的米氏理论（Mietheory）基本原理，且无需校准

• 经过制药行业验证的精密测量技术

• 传感器内的可变换透镜可允许按特定的要求来配置仪器的分辨率

• CE认证标志

• 防水、防尘性能达到工业防护等级IP65（光学镜头防护等级达到IP66）

• 符合工业级电磁兼容性（EMC）要求，确保仪器安全、可靠的运行

• 夹套式设计，方便安装拆卸

工作原理

概述
所有 Insitec 的安装均依照独特的应用要求量身定制。 该系统包含从简单的近线手动操作系统到全自动运行系统，可为连续监测及多元控制提供可靠的在线解决方案。 马尔文帕纳科与客户通力合作，为客户提供专业知识、硬件及软件服务。 在成功完成项目的同时，确保了成本效益与良好的投资回报。

成功因数
工艺分析的成功取决于三个关键部分的仔细考量：

• 工艺界面

• 样品测量

• 数据显示与使用

工艺界面
Insitec 系统是工艺设备系统，在工厂环境中运行。 正确选择仪器与工厂之间的界面是确保长期无故障运行的基础。

马尔文帕纳科拥有在多种干式应用中经过验证的技术。 从用于每小时100吨及以上流量的两级式螺旋取样系统，到静态采样器、简便的分散器以及采样管用于较低流量，一应俱全。 成熟的技术确保代表性样品以适当的分散状态及分析浓度被自动一致地传递至测量区域。

Insitec在线系统与工艺流程共同运行并具有手动界面。 对于自动化连续运行，Insitec安装于工艺管道内或相关的采样支路上。

在适合的分散状态下进行测量，确保获取相关的数据，无论是想要了解的状态是团聚颗粒还是单独粒度。

每个测量点都可能需要一款专用的Insitec，或使用单个粒度仪监测多条线路或多项工艺步骤。 这取决于需要的测量频率。

设计优良的在线工艺界面：

• 传递浓度合适的代表性样品

• 可靠运行、降低维护频率、不干扰工艺流程

• 循环分析材料，尽量减少废料

样品测量
Insitec 系统采用激光衍射技术快速测量颗粒粒度。 应用于干法系统时，可在一秒钟内对完整的颗粒粒度分布进行测量，从而提供瞬时监测。 即使是具有快速动态的工艺，也可进行有效追踪。

Insitec系统可直接测量工艺流。 一些工艺中，颗粒负载率或浓度可能在例行操作过程中发生变化。 这对许多颗粒测量系统而言是一项挑战，同时会对测量的颗粒粒度产生不利影响。 然而，所有Insitec系统安装的多重散射校正可确保测量的粒度变化始终真实可靠。 此类计算程序在检测前对与几个颗粒相互作用的光源浓度影响进行算术纠正。 因此，所有测量与样品浓度无关。

Insitec可为所有粒度分布提供可靠、及时、完整的数据。 无论是人工控制还是自动控制，这些数据均为更好的工艺控制奠定了稳固的基础。

数据显示和使用
Insitec 系统与现有的控制系统整合。 典型情况下，该系统由中央控制室操作，并依据测量的结果制定例行决策。 强大的软件包使整合与数据分析更为简单明了。

Malvern Link II软件具有将Insitec与现有控制系统以及与自动化工艺控制进行整合的功能。 允许分析员从专用电脑或现有的控制模拟系统进行操作。 重要的是，Malvern Link II并非仅限于Insitec整合。 该软件还可轻松地进行其它仪器类型的整合，简化多元控制。

RTSizer软件采用清楚易懂的方式显示测量数据。 结果报告可按照工业及客户标准定制，从而改善信息流。 Insitec数据用于：

• 改善工艺认知度

• 提供即时扰动检测

• 支持整体工艺优化

• 自动化工艺控制

由于报告了完整的粒度分布，因此监测与控制可以以任何粒级为基础，例如：3至30微米粒级的细粉末，超过200微米的材料等。 Insitec数据可优化人工控制策略并使工艺控制实现完全自动化，从而提供丰厚的经济效益。

技术指标

系统

常规

运行环境

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