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伯东 KRI 射频离子源 RFICP 380 持续轰击 TiN 薄膜获得更优秀性能


射频离子源

在制备 TiN 薄膜过程中, 离子持续轰击对 TiN 薄膜的结构和性能影响很大, 在离子持续轰击作用下能够获得性能优异的TiN薄膜.

 

为了获取性能优异的 TiN 薄膜, 国内某制造商采用伯东 KRI 射频离子源 RFICP 380 对 TiN 薄膜进行持续轰击. 工作系统简单示意如下图:

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伯东 KRI 射频离子源 RFICP 380 技术参数:

射频离子源型号

RFICP 380

Discharge 阳极

射频 RFICP

离子束流

>1500 mA

离子动能

100-1200 V

栅极直径

30 cm Φ

离子束

聚焦, 平行, 散射

流量

15-50 sccm

通气

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型压力

< 0.5m Torr

长度

39 cm

直径

59 cm

中和器

LFN 2000

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美国 KRI 射频离子源 RFICP 380 特性:

1. 大面积射频离子源

2. 提供高密度离子束, 满足高工艺需求

3. 采用射频技术产生离子, 无需电离灯丝, 工艺时间更长, 更适合时间长的工艺要求

4. 离子束流: >1500 mA

5. 离子动能: 100-1200 V

6. 中和器: LFN 2000

7. 采用自动控制器, 一键自动匹配

8. RF Generator 可根据工艺自行选择离子浓度, EX: 1kW or 2kW

9. 离子源采用模块化设计, 方便清洁/ 保养/ 维修/ 安装

10. 栅极材质钼和石墨, 坚固耐用

11. 通入气体可选 Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, others

 

应用结果:通过使用 伯东 KRI 射频离子源 RFICP 380 持续轰击 TiN 薄膜, 备的TiN 薄膜具有更致密的结构, 更光滑的表面, 更好的结晶性, 更优异的机械性能和更好的腐蚀性能.

其使用前(左)和使用后(右)对比图如下:

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伯东是德国 Pfeiffer 真空泵检漏仪质谱仪真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.

 

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若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:

上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王女士T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958ec@hakuto-vacuum.cn                      ec@hakuto.com.twwww.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw

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