飞纳电镜出席第 24 届 IPFA 国际会议

2017 年 7 月 4 日-7 日，第 24 届 IPFA 国际会议在四川成都盛大举行，飞纳电镜携飞纳台式扫描电镜能谱一体机 Phenom ProX 出席了此次会议。

IPFA 是全球有关半导体物理分析、失效分析及可靠性方面学术水平最高、规模最大、影响最广的国际会议，IPFA 是 International symposium on the physical & failure analysis of integrated circuits 的简称，中文全称国际集成电路物理与失效分析会议。1987 年，首届 IPFA 国际会议由 IEEE 失效分析分会在新加坡举办，2001 年之前，IPFA 国际会议每两年举行一次。2002 年起每年举行一次。IPFA 已经发展为全球举足轻重的可靠性与失效分析会议组织。在美国，相应的会议为 IRPS（可靠性物理国际会议）和 ISTFA（测试与失效分析国际会议）；在欧洲，相应的会议为 ESREF（欧洲电子器件可靠性与失效物理分析会议）。本次 IPFA 国际会议，飞纳台式扫描电镜操作简单，快速方便，成像清晰，能谱灵敏，设计精巧给来访者留下了深刻的印象。

飞纳电镜应用工程师现场给来访者展示样品测试

飞纳电镜内部集成彩色光学显微镜全景导航（右上角）

由于半导体器件体积小、重量轻、寿命长、功率损耗小、机械性能好。因而适用的范极广。然而半导体器件的性能和稳定性在很大程度上受它表面的微观状态的影响。一般在半导体器件试制和生产过程中包括了切割、研磨、抛光以及各种化学试剂处理等一系列工序， 正是在这些过程中，会造成表面的结构发生惊人的变化，所以几乎每一个步骤都需要对表面进行检查，而生产大型集成电路就更是如此。目前，扫描电镜在半导体中的应用已经深入到许多方面。

飞纳台式扫描电镜 15 秒抽真空，30 秒成像，大大提高了半导体器件的检测效率。操作比光学显微镜简单，相对于传统落地式扫描电镜能更快地得到扫描电镜图像结果。飞纳电镜使用长寿命 1500h，高亮度（是钨灯丝亮度的 10 倍），低色差的 CeB6 灯丝，图像信号充足。

飞纳电镜拍摄的集成电路内部 放大倍数 20000x

飞纳电镜拍摄的集成电路内部 放大倍数 50000x

飞纳电镜拍摄的微机电电路 放大倍数 5000x

飞纳电镜拍摄的微机电电路 放大倍数 10000x

飞纳电镜拍摄的 LED 芯片截面 放大倍数 70000x

飞纳电镜公司及产品介绍

感谢本次第 24 届 IPFA 国际会议，为半导体行业的工作者和飞纳电镜筑起了一座桥梁，让很多半导体行业的工作者全面了解飞纳电镜的使用方法及性能，也让飞纳电镜的工程师了解了半导体行业的研究热点与方向。