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膜厚测量仪FE-300

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参考报价: 面议 型号: FE-300
品牌: 大塚电子 产地: 日本
关注度: 460 信息完整度:
样本: 典型用户: 暂无
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AI问答
可以做哪些实验,检测什么? 可以用哪些耗材和试剂?

膜厚量测仪FE-300的特点

  • 测试范围涵盖薄膜到厚膜

  • 基于绝对反射率光谱分析膜厚

  • 小型・低价,精度高

  • 无复杂设定,操作简单,短时间内即可上手

  • 外观新颖,操作性提高

  • 非线性*小二乘法,实现光学常数解析(n:折射率、k:消光系数)

对应膜种

○ 多层膜                        ○ 折射率倾斜

○ 非干涉膜                    ○ 超晶格结构

用途

○ 光学薄膜(ARfilm、ITO等)

○ FPD相关(ITO、PI、PC、CF等)

测量项目

多层膜厚解析

绝对反射率测量

光学常数解析(n:折射率k:消光系数)

测量实例

式样

型号  FE-300V FE-300UV FE-300NIR *1
本体 标准型 薄膜型 厚膜型 厚膜型(高分辨率)
样品尺寸 *大 8 寸晶圆( 厚度 5 mm )
测量膜厚范围(nd值) 100 nm ~ 40 μm 10 nm ~ 20 μm 3 μm ~ 300 μm 15 μm ~ 1.5 mm
测量波长范围 450 nm ~ 780 nm 300 nm ~ 800 nm 900 nm ~ 1600 nm 1470 nm ~ 1600 nm
测量精度 ± 0.2 nm 以内 *2 ± 0.2 nm 以内 *2 - -
重复精度 0.1 nm 以内 *3 0.1 nm 以内 *3 - -
测量时间 0.1 s ~ 10 s 以内
光斑直径 约 φ 3 mm
光源 卤素灯 氙灯与卤素灯 卤素灯 卤素灯
通讯接口 USB
尺寸,重量 280(W) × 570(D) × 350(H) mm、 约 24 kg
软件功能
标准 波峰波谷解析、FFT解析、*适化法解析、*小二乗法解析
选配功能 材料评价软件、薄膜模型解析软件、标准片解析

*1  细规格请咨询 

*2  相对于VLSI 公司产膜厚标准(100nm SiO2/Si)的膜厚保证书记载的测量保证值范围

*3  VLSI 公司产膜厚标准(100nm SiO2/Si)的同一点反复测量时的扩张不确定度(包括因子2.1)


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注:该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案,不可用于临床诊断或治疗等相关用途

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