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Otsuka膜厚测量仪

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参考报价: 面议 型号: FE-5000/5000S
品牌: 大塚电子 产地: 日本
关注度: 10 信息完整度:
样本: 典型用户: 暂无
产地类别进口供应商性质区域代理
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在高精度薄膜分析的膜厚测量仪基础上,增加安装了自动角度调节装置,实现高速的薄膜测量和高精度的化学常数解析。可拆卸缓速器和旋转分析仪也拓宽了测量的选择范围,提高了测量精度。FE-5OOOS 虽然和FE-5000有相同的基本功能,但是价格低,体积小。膜厚测量仪的用途也得到扩大。

— 可对应各种选配,膜厚的特制解析


测量项目:

-测量椭圆参数(TANψ,COSΔ)

-光学常数(n:折射率,k:消光系数)分析

-薄膜厚度分析

 

应用范围:

半导体晶圆

栅氧化膜,氮化膜

SiO2,SixOy,SiN,SiON,SiNx,Al2O3,SiNxOy,poly-Si,ZnSe,BPSG,TiN

光学常数(波长色散)

复合半导体

AlxGa(1-x)多层膜、非晶硅

 

FPD

取向膜

等离子显示器用ITO、MgO等

 

各种新材料

DLC(类金刚石碳)、超导薄膜、磁头薄膜

 

光学薄膜

TiO2,SiO2多层膜、防反射膜、反射膜

 

光刻领域

g线(436nm)、h线(405nm)、i线(365nm)和KrF(248nm)等波长的n、k评估

 

原理

包括s波和p波的线性偏振光入射到样品上,对于反射光的椭圆偏振光进行测量。s波和p波的位相和振幅独立变化,可以得出比线性偏振光中两种偏光的变换参数,即p波和S波的反射率的比tanψ相位差Δ。


测量示例:

1)考虑到表面粗糙度测量膜厚度值[FE-0008]


当样品表面存在粗糙度(Roughness)时,将表面粗糙度和空气(air)及膜厚材料以1:1的比例混合,模拟为“粗糙层”,可以分析粗糙度和膜厚度。以下介绍了测量表面粗糙度为几nm的SiN(氮化硅)的情况。

测量示例:

1)考虑到表面粗糙度测量膜厚度值[FE-0008]


当样品表面存在粗糙度(Roughness)时,将表面粗糙度和空气(air)及膜厚材料以1:1的比例混合,模拟为“粗糙层”,可以分析粗糙度和膜厚度。以下介绍了测量表面粗糙度为几nm的SiN(氮化硅)的情况。


Otsuka膜厚测量仪信息由广州市固润光电科技有限公司为您提供,如您想了解更多关于Otsuka膜厚测量仪报价、型号、参数等信息,欢迎来电或留言咨询。

注:该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案,不可用于临床诊断或治疗等相关用途

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