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药品中潜在致突变性杂质的痕量水平定量分析
发布时间：
2021-01-06 11:46
来源：
安捷伦科技（中国）有限公司
| 领域： | 化学药,生物制药/仿制药,药物代谢 | ||
| 样品： | 药品 | 项目： | 两种潜在致突变性杂质 3-氨基 吡啶和异烟酰胺 |
| 方案文件名 | 下载 |
|---|---|
药品中潜在致突变性杂质的痕量水平定量分析 |
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本应用重点介绍了一种分析方法，用于精确定量两种潜在致突变性杂质 3-氨基吡啶和异烟酰胺，这两种杂质可由达伐吡啶中的活性药物成分 (API) 4-氨基吡啶形成。Agilent Ultivo LC/TQ 具有混合模式采集功能，通过该功能可以同时采集样品的定量（SIM 和 MRM）及定性信息（全扫描和产物离子扫描）。混合模式的工作原理是将扫描功能与目标分析物的 SIM 或 MRM 整合到同一时间段内。实验表明该方法具有优异的灵敏度和精度，潜在致突变性杂质的定量限远低于法规要求。
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