安捷伦科技（中国）有限公司
400-6699-117转4029
分析测试百科网 认证会员，请放心拨打！
皇冠会员
诚信认证:
工商注册信息已核实！安捷伦宣布推出质谱新产品 6546 Q-TOF 及新一代代谢组学/脂质组学解决方......
Agilent 8890 气相色谱系统与配备 Extractor (Xtr) 离......
扫一扫即可访问手机版展台
扫描二维码，关注安捷伦视界
使用 ICP-OES 测定金属样品中的硅元素
发布时间：
2022-07-01 15:40
来源：
安捷伦科技（中国）有限公司
| 领域： | 地矿/钢铁/有色金属 | ||
| 样品： | 金属 | 项目： | 硅元素 |
| 参考： | GB223.5-2008,GB 5687.2-2007 | ||
| 方案文件名 | 下载 |
|---|---|
使用 ICP-OES 测定金属样品中的硅元素 |
下载此篇方案 |
本文介绍了一种使用 ICP-OES 测定金属样品基体中，氢氟酸介质下硅元素的方法，采用了安捷伦无硅涂层的耐氢氟酸进样系统，克服了常规 ICP-OES 分析氢氟酸介质空白值高的缺点，获得了较低的空白值，适合于测定多种金属基体中不同含量范围的硅元素。
扫描下方二维码，关注“安捷伦视界”微信公众号，获取更多解决方案资讯。
