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利用 7700s/7900 ICP-MS 直接分析高纯度盐酸中的痕量金属杂质
发布时间：
2021-02-26 11:24
来源：
安捷伦科技（中国）有限公司
| 领域： | 电子/电器/半导体 | ||
| 样品： | 高纯度盐酸 | 项目： | 痕量金属杂质 |
| 方案文件名 | 下载 |
|---|---|
利用 7700s/7900 ICP-MS 直接分析高纯度盐酸中的痕量金属杂质 |
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本应用简报展示了 Agilent 7700s/7900 ICP-MS 在直接测定高纯度盐酸 (HCl) 中金属杂质方面的卓越分析性能与稳定性。7700s/7900 采用可有效去除多原子干扰的八极杆反应池系统 (ORS)，使受到严重氯类干扰的元素达到最终的检测限要求。例如，ORS 可去除多原子离子 40Ar35Cl+，使 As 可在质量数 75 处得到直接测量，从而准确分析未稀释浓 HCl 中的痕量 As。直接分析浓酸省略了样品前处理流程中的稀释步骤，从而大大降低样品污染的可能性。
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