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使用 Agilent 8900 ICP-MS/MS 在MS/MS 模式下测定超纯半导体级硫酸中的痕量元素
发布时间：
2021-02-26 11:01
来源：
安捷伦科技（中国）有限公司
| 领域： | 电子/电器/半导体 | ||
| 样品： | 超纯半导体级硫酸 | 项目： | 42 种元素 |
| 方案文件名 | 下载 |
|---|---|
使用 Agilent 8900 ICP-MS/MS 在MS/MS 模式下测定超纯半导体级硫酸中的痕量元素 |
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使用 Agilent 8900 半导体配置 ICP-MS/MS，成功测定了半导体级 H2SO4 中超痕量水平下的 42 种元素。1/10 稀释的 H2SO4 中，20 ppt 水平（Si 为 2 ppb）下的所有元素均获得了优异的加标回收率，证明8900 ICP-MS/MS 方法适用于高纯度工艺化学品的常规分析。
使用 ICP-MS/MS 在 MS/MS 模式下采用适当反应池气体条件，避免了质谱干扰问题的出现，这些干扰会阻碍 ICP-QMS 对某些关键元素的测量。8900 ICP-MS/MS 的轴向加速功能明显提高了测定 Ti、Zn 和 P 等原子所需的子离子灵敏度。9.8% H2SO4中的几乎所有分析物均获得了亚 ppt 级 DL 和 BEC。
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