上海伯东美国 KRi 霍尔离子源辅助镀膜 IBAD 应用上海伯东美国 KRi 霍尔离子源 EH 系列, 提供高电流低能量宽束型离子......
上海伯东代理美国 KRi 考夫曼离子源适用于安装在 MBE 分子束外延, 溅射和蒸发系统, PLD 脉冲激光系统等, 在沉积前用离子轰击表面, 进行预......
上海伯东美国 KRi 射频离子源 IBSD 离子束溅射沉积应用上海伯东美国 KRi 考夫曼品牌 RF 射频离子源, 无需灯丝提供高能量, 低浓度的宽束......
上海伯东美国 KRi 考夫曼离子源 e-beam 电子束蒸发系统辅助镀膜应用上海伯东美国 KRi 考夫曼离子源 KDC ......
KRi 离子源常见工艺应用通过使用上海伯东美国 KRi 离子源可以对材料进行加工, 真空环境下, 实现沉积薄膜, 干式蚀刻和材料表面改性等工艺.KRi......
KRI 离子源应用于有机材料热蒸镀设备 OLED, OPV有机金属热沉积系统是一种热蒸发的方式, 用于将有机或金属材料沉积到基板表面上.该过程需要通过......
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KRI 离子源应用于超高真空电子束蒸镀设备 UHV E-beam System超高真空环境的特征为其真空压力低于 10-8 至 10-12 torr,......
上海伯东提供适用于光学镀膜机的离子源和真空系统光的干涉在薄膜光学中应用广泛. 光学薄膜技术的普遍方法是借助真空溅射的方式在玻璃基板上涂镀薄膜. 光学镀膜是光学器......
光通信的信息载体是光波, 为了进一步提高光通信系统中光信号的传输质量, 满足光通信系统的使用要求, 上海伯东美国&nb......
上海伯东美国 KRi 考夫曼离子源 KDC 40 应用于双腔室高真空等离子 ALD 系统, 实现小规模试验中 2-4 英寸硅片等半导体衬底表......
KRI 离子源应用于超高真空磁控溅镀设备 UHV Sputter上海伯东代理美国 KRI 离子源应用于超高真空磁控溅镀设备 UHV Sputter 实现高质量薄......
KRI 离子源应用于磁控共溅镀设备 Co-sputter上海伯东代理美国 KRI 考夫曼离子源应用于磁控共溅镀设备 Co-sputter ......
KRI 离子源应用于电子束蒸镀设备 E-beam Evaporation System特殊的系统设计电子束沉积是一种实用且高度可靠的系统, 上海伯东某......
上海伯东代理美国 KRI 射频离子源应用于多层膜磁控溅镀设备 Multilayer sputter, 通过使用 KRI 射频离子源可实现基板......
KRI 离子源应用于金属热蒸镀设备 Metal Thermal Evaporation System热蒸发是物理气相沉积 PVD 中最常用方法. 使用......
KRi 射频离子源应用于车载摄像头镜片镀膜工艺, 实现车载镜头减反, 塑胶镜片增透车载镜头的镀膜非常重要, 镀膜的核心用途就是增加透光率. 先进的镀膜......
KRi 大尺寸射频离子源树脂镜片高性能 AR 工艺树脂为手机行业目前最常用的镜片基材, 为了减少镜片反射, 提升透过率, 会在镜片表面镀 AR 增透膜 (减反膜......
KRi 离子源应用于蓝玻璃 AR 工艺配备 800万或以上像素的高端手机都基本内嵌蓝玻璃滤光片的摄像头. 蓝玻璃滤光片通过 AR ......
KRi 射频离子源应用于红外截止滤光片 IRCF 工艺上海伯东某客户为精密光学镀膜产品生产商, 生产过程中需在白玻璃上进行镀膜. ......
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