CAMECA二次离子质谱仪IMS Wf和SC Ultra

适用于半导体应用的高性能低能量SIMS

IMS Wf和SC Ultra经专门设计，可充分满足高级半导体对动态SIMS测量日益增长的需求该仪器可提供大范围的冲击能量（150 eV到13 keV），不影响质量分辨率和一次离子束密度，可确保在高通量条件下为具挑战性的应用提供卓越的分析性能：超浅能量和高能量注入物、超薄氮氧化物、高k金属栅极、硅锗掺杂层，Si:C:P结构、PV和LED器件及石墨烯等等。

从标准到超浅深度剖析
对半导体进行分析的首要条件是优化SIMS分析条件以进行超浅深度剖析，而无需舍弃标准深度剖析应用。CAMECA因此开发了独特的SIMS仪器设计，能够溅射具有大范围碰撞能量的样品：从用于厚结构的高能量（keV范围）到用于超薄结构的超低能量（≤150eV）。这种碰撞能量选择的灵活性适用于不同的控制良好的溅射条件（物种、入射角等）。

CAMECAIMS Wf和SC Ultra可提供此类极限低碰撞能量（EXLIE）功能的SIMS仪器，且在高质量分辨率和高透过率方面毫不逊色。 

高自动化水平
随着SIMS技术的成熟，用户希望能够降低实现高再现性和高精度测量所需的专业知识要求。未来发展趋势显然是无人值守的自动分析。CAMECA IMS Wf和SC Ultra利用计算机自动化应对该挑战，确保完全控制所有分析参数（分析方案、仪器设置等）。

气锁系统、样品台和分析室已进行了优化，最多可容纳300毫米的晶圆（IMS Wf型号），并可在一批次中装载大量样品——在IMS Wf型号中最多可装载100个样品，同时还提供气锁和分析室之间的完全电动化转移。 

凭借高自动化水平，IMS Wf和SC Ultra可执行快速深度剖析，具有优化的样品通量和出色的测量稳定性，确保了SIMS工具生产率。

看看IMS Wf和SC Ultra能够做什么-

超浅注入物计量（EXLIE SIMS）

超低碰撞能量SIMS工具用于监测掺杂物的深度分布。

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途