J200 LA-LIBS复合系统特色 
     高稳定Q开关, 短脉冲Nd:YAG 激光 ，可选择多波长 < 5 nsec at 213 nm ，创新的模组化设，为独立 LA, LIBS, LA - LIBS 复合的系统设计。因分析需求，提供三种LIBS 检测器选择 ，激光剥蚀均匀且一致性的LA系统 。
稳定激光能量的光闸设置 
      高分辨双CMOS相机系统， 可用于宽视野观测样品表面特征 。应用光谱公司的 Flex 样品室内置气体模组可优化气流和颗粒清洁能力，满足不同测量要求，先进的微集气管设计，可尽可能的减少排气，防止集结剥蚀颗粒，消除记忆影响。 
      双通道高精度质量流量控制器和电子控制阀 
      Axiom LA 软件系统 
      软件可整合控制硬件组件及ICP-MS 同pu步操作，轻松实现繁杂的激光采样与分析模式 ，强大的数据分析工具用于繁杂的LIBS and LA-ICP-MS 串联光谱分析，LIBS 化学计量法软件分辨分类分析  
      灵活的分析方法：全分析，夹杂物分析，斑点分析，深度分析和元素分映像 
      维护成本低 
      可扩充升级LA – LIBS 复合系统 
      可扩充升级飞秒 LA 系统 

      自动样品高度调整功能 
      J200激光剥蚀及激光诱导击穿光谱复合系统采用ASI专利技术：剥蚀导航激光和样品高度自动调整传感器相结合，解决了若样品表面凹凸不平而剥蚀不均、导致元素含量值误差大的问题；激光能量稳定阀确保了到达样品表面的激光能量均匀，使所有采样点的激光烧蚀均匀一致；3-D全自动操作台最大行程可达100mmx100mmx36mm，XY行程分辨率0.2μm，Z行程分辨率0.1μm， 优于其它任何同类产品。 
      J200激光剥蚀及激光诱导击穿光谱复合系统采用ASI专利技术可对固、液、气等样品进行全元素LIBS快速检测，同时可将固体样品的剥蚀颗粒或者液体样品直接送入ICP-MS系统，实现ppb级精确分析。弥补了ICP-MS不能测量部分轻元素的缺憾，也有效避免了ICP-MS分析中繁杂的样品前处理过程及可能引入的二次污染。 
     J200激光剥蚀及激光诱导击穿光谱复合系统配置有高适连接口，轻松实现与市面上绝大多数主流品牌ICP-MS的联用。 
     J200激光剥蚀及激光诱导击穿光谱复合系统配备有固体样品室，还可根据用户需求同时配置气体、液体样品室，并通过设置可自动切换的光路系统，实现固、液、气体样品室在同一系统中的自动化切换，测量过程中无需人为拆卸。

 J200激光剥蚀及激光诱导击穿光谱复合系统配置：

     主机系统：包括激光器及控制系统，激光传输光学元件，样品台、样品室、气体管路系统等、样品成像系统等； 

      等离子体光谱检测器：Czerny Turner光谱仪/ICCD相机、阶梯光栅光谱仪/ICCD相机、同步4/6通道CCD光谱仪三种LIBS检测器可选； 
      软件系统：系统操作软件、数据分析软件、TruLIBS发射光谱数据库、化学统计软件。

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途