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诚信认证:
工商注册信息已核实!参考报价: | 面议 | 型号: | AT-400 |
品牌: | ANRIC | 产地: | 美国 |
关注度: | 19 | 信息完整度: | |
样本: | 典型用户: | 暂无 | |
供应商性质 | 一般经销商 | 产地类别 | 进口 |
价格范围 | 30万-50万 |
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原子层沉积(Atomic layer deposition, ALD)是通过将气相前驱体脉冲交替的通入反应器,化学吸附在沉积衬底上并反应形成沉积膜的一种方法,是一种可以将物质以单原子膜形式逐层的镀在衬底表面的方法。因此,它是一种真正的“纳米”技术,以精确控制方式实现纳米级的超薄薄膜沉积。由于ALD利用的是饱和化学吸附的特性,因此可以确保对大面积、多空、管状、粉末或其他复杂形状基体的高保形的均匀沉积。
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注:该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案,不可用于临床诊断或治疗等相关用途