日立紫外清洗设备是利用紫外光和臭氧对样品表面污染物进行清理的前处理设备，主要针对样品表面的有机污染物，相比等离子清洗更加温和，对样品损伤小。清洗系统:2种清洗模......
设备主要应用于生物样品、食品、化学及其它材料样品的微观观测与分析，是冷场发射扫描电镜配上冷冻传输系统组合而成的冷冻场发射扫描电镜。目前常规扫描电镜要求所观察的样......
日立ArBlade 5000离子研磨系统能够实现高产量，并制备广域横截面样品。 离子研磨系统使用通过在表面上照射氩离子束引起的溅射效应来抛光样品的表面。样品预处......
日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了电磁管电极，能够最大限度地减轻对样品的损坏，并在样品表面涂覆一层均匀......
IM4000PLUS是支持断面研磨和平面研磨（Flat Milling®*1）的混合式离子研磨仪器。借此，可以用于适用于各种诸如对样品内部结构观察和各类分析等，......
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