日本JEOL电子束光刻机JBX-6300FS

日本JEOL电子束光刻机JBX-6300FS 

JBX-6300FS的电子光学系统在100kV的加速电压下能自动调整直径为（计算值）2.1nm的电子束，简便地描画出线宽在8nm以下（实际可达5nm）的图形。 此外，该光刻系统还实现了9nm以下的场拼接精度和套刻精度，性能比优越。 利用最细电子束束斑（实测值直径≦2.9nm）可以描画8nm以下(实际可达5nm)极为精细的图形。

产品规格：

产品特点：

· JBX-6300FS的电子光学系统在100kV的加速电压下能自动调整直径为（计算值）2.1nm的电子束，简便地描画出线宽在8nm以下（实际可达5nm）的图形。

· 此外，该光刻系统还实现了9nm以下的场拼接精度和套刻精度，性能比优越。

· 利用最细电子束束斑（实测值直径≦2.9nm）可以描画8nm以下(实际可达5nm)极为精细的图形。本公司独特的ＤＦ/DS系统能对电子束偏转产生的畸变进行校正，具有球差和象散自动补偿功能，可在场边角、场边界处进行高精度地描画。

· 该系统采用了19位DAC和样品台控制精度为0.6nm的激光干渉仪，实现了业界最高水准的位置精度、拼接、套刻精度（±9nm）。　可用于位置精度要求很高的光子器件、通信设备等领域的研究和开发。

· 本公司独自的自动校正功能(自动补偿功能)，实现了可信赖的长时间稳定地描画。自动补偿可以根据时间（任意的）、场和图形进行分别设定，非常适合于周末及休假等无人值守等情况下的长时间描画。

· 最大扫描速度高达50MHz，再加上最大程度地抑制了机器的准备操作时间，因此缩短了描画时间，到描画开始为止的作业非常简单，聚焦也能够自动进行，因而能提高总产出量。

· 使用自动装载系统（选配），最多可以连续描画10个样品架。（例：可连续描画10张6英寸的晶圆片或者40张2英寸的晶圆片等。※连续描画时，需要和材料数相应的样品架。）目前在日本国内外已有这样的生产线。

· 利用微间距控制程序（场尺寸精调程序），可以制作DFB激光器等的啁啾光栅。

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途