加拿大Nicoya 个人型分子相互作用分析仪Openspr-xtNicoyalife 成立于 2014 年，是滑铁卢大学科技孵化器重点培养的纳米科技公司，并获得......
德Zeiss电子束直写仪SEM 型号：Zeiss Sigma SEM 主要功能：·利用曝光抗蚀剂，采用电子束直接曝光，可在各种衬底材料表面直写各种图形......
德Zeiss Sigma SEM 电子束直写仪型号：Zeiss Sigma SEM 主要功能：·利用曝光抗蚀剂，采用电子束直接曝光，可在各种......
日本JEOL圆形电子束光刻机 JBX-8100FS · JBX-8100FS 圆形电子束光刻系统· 最新高......
日本JEOL电子束光刻机JBX-3050MV JBX-3050MV 是用于制作45nm～32nm 节点的掩模版/中间掩模版（mask/r......
日本JEOL电子束光刻机JBX-3200MV JBX-3200MV是用于制作......
日本JEOL电子束光刻机JBX-6300FS JBX-6300FS的电子光学系统在100kV的加速电压下能自动调整直径为（计算值）2.1n......
日本JEOL电子束光刻机JBX-9500FS JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光......
日本JEOL，大功率电子枪/电源，EBG-300UA，JEBG1000UB，JEBG3000UB JEBG系列大功率电子枪是在真空中蒸发或熔解金属及氧......
美国 OAI 光刻机:Model 200 手动曝光机,实验室用 ,Model 800MBA 双面曝光机, 实验室及小批量生产,Model&......
光功率计及分析仪Model 308/317/320/375/357/457OAI光功率计以其测量精度，重复性著称。测量数据符合美国NIST标准。广泛应用于半导体......
800型光学正面和背面光刻机系统 OAI模型800光刻机是半自动,four-camera、光学正面和背面光刻机。它提供极其精确的(1碌m - 2 m碌......
美国OAI边缘曝光机 2000SM,2000AF详细介绍型号2000SM边缘曝光系统2000AF型曝光系统OAI 2000型曝光系统可以配置为边缘曝光......
美国OAI光刻机 5000E 详细介绍 型号5000E大面积光刻机用于基板和显示器OAI 5000E型大面积掩光刻机是一种先进的......
美国OAI全自动上侧或后侧光刻机6000 FSA 详细介绍 型号6000 FSA用于生产的全自动，上侧或后侧光刻机 用于：半导体，......
美国OAI晶元绑定机晶圆接合器 AML 晶片接合在MST，MEMS和微工程领域中已经发现了许多应用。 这些包括压力传感器，加速度计，微型泵和其他流体处......
产品详情Sentech 集成等离子刻蚀和沉积的多腔系统 高产量等离子蚀刻和沉积腔体可以与多达两个片盒站组合，用于到200 mm晶片的高产量工艺。&nb......
德国Sentech等离子体增强原子层沉积机PE-ALD 原子层沉积（ALD）是在3D结构上逐层沉积超薄薄膜的工艺方法。薄膜厚度......
德国Sentech离子刻蚀与沉积机 200 RIE Cost-effectivenessRIE plasma et......
德国Sentech离子刻蚀与沉积机 200 RIE Cost-effectivenessRIE plasma etcher E......
扫一扫即可访问手机版展台
