激光共焦显微拉曼光谱仪产地：韩国型号：PRISM, FEX该激光共聚焦拉曼系统同时适用于显微样品或大尺寸样品测量，具有先进的三维共焦成像性能。共焦显微光路保证快......
美国雷姆哈特M系列接触角测量仪产地：美国Rame Hart型号：M590等M590接触角测量仪具有最先进的自动化工具，可以测量静态和动态接触角，并计算表面能和表......
仪器简介：电化学ECV,掺杂浓度检测（C-V Profiling）PN结深测试电化学ECV可以用于太阳能电池、LED等产业，是化合物半导体材料研究或开发的主要工......
球焊、锲焊及跳焊(Wire Bonding)是微电子、光电子及其他半导体器件的常用工艺。焊线机可进行球焊、锲焊、金线键合、跳焊(Pump)等。 仪器特......
欧洲产高品质金刚刀手动划片机，适用于陶瓷、玻璃、半导体晶圆等多种材料。主要型号包括：精确手动晶圆划片机RV-129，低成本手动划片机RV-125, 126, 1......
等离子体热处理炉为德国生产，具有等离子清洗、表面处理、材料表面修饰、材料热处理的功能。 仪器特点及基本参数：具有等离子体清洗、表面修饰、表面处理、表面......
RSO系列真空共晶炉、真空烧结炉，广泛用于激光、射频电路、功率器件等微电子光电子行业的晶粒贴装，以及金-硅合金，密集焊接和回流共晶。RSO系列共晶炉为德国生产，......
德国生产程控加热台/热板，多个型号：温度控制器与热台可分离、可集成在一起；可带顶针，可带样品夹具或者真空吸附样品，高度可调或水平调节；也可按要求订制。 ......
匀胶机，又称甩胶机、匀胶台、旋转涂胶机、旋转涂膜机、旋转涂层机、旋转涂布机、旋转薄膜机、旋转涂覆仪、旋转涂膜仪、匀膜机，英文叫Spin Coater或者Spin......
光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统，光刻机，紫外曝光机等；ECOPIA为全球领先的半导体设备供应商，多年来致力于掩模对准光刻机和匀胶机研发与生产，并......
仪器简介：光刻机/紫外曝光机 (Mask Aligner)原产国: 韩国，唯一能做到图形化蓝宝石衬底（PSS）光刻机，高性价比型号：KCMA-100；又名：掩模......
快速热化学气相沉积系统 (RTCVD)生产商：韩国Ecopia RTCVD快速热化学气相沉积设备广泛用于多晶硅、氧化硅、氮化硅等常见半导体薄膜的沉积和......
快速热化学气相沉积系统 (RTCVD)生产商：韩国Ecopia RTCVD快速热化学气相沉积设备广泛用于多晶硅、氧化硅、氮化硅等常见半导体薄膜的沉积和......
二维材料制备设备(TCVD) - 配备热壁石英管和LabVIEW自动控制软件，可用于MoS2 / h-BN / CNT/Graphene等常见二维材料的生长。技......
扩散炉、低压化学气相沉积设备(LPCVD)产地：韩国；有单管和双管两个不同的型号，用于科研或者小规模生产。 性能和特点： - 温度范围：500 ~ 1......
石墨烯生长设备(TCVD) - 配备热壁石英管和LabVIEW自动控制软件。技术规格如下：1. 石英管及工艺炉 QUARTZ TUBE & FURNAC......
脉冲激光沉积系统(PLD)、激光分子束外延设备(L-MBE) 设备简介：产地：美国NBMPLD是将脉冲激光透过合成石英窗导入真空腔内照射到成膜靶上，靶被照射后吸......
磁控溅射镀膜机 - 紧凑，适合科研，极高性价比！型号：AP-MMS1产地：韩国原装进口 仪器特点：1/ 沉积材料：金属、氧化物等；2/ 膜......
在探针台上，可以按照用户的科研需求，加配磁体，甚至于可以加配3D矢量磁场。加磁体，作为客户化定制的一个方面，现在越来越常见。 1/ 可以在低温真空探针......
技术规格：1. 面电阻量测范围： 1 mΩ/sq. to 2 MΩ/sq.(或更高)2. 样品尺寸：支持10mm至300mm wafer3. 量测系统包括：Ja......
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