NRE-4000（ICPM）ICP刻蚀机概述：是带ICP等离子源和偏压样品台的高速刻蚀系统，系统可以达到高速率、低损伤、高深宽比的刻蚀效果。可实现范围广泛的刻蚀......
NRE-4000（M）反应离子刻蚀概述：NRE-4000是一款独立式RIE系统，配套有淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品.具有不锈钢柜子以及13"的上......
NRE-4000（A）全自动反应离子刻蚀概述：NRE-4000是一款独立式RIE反应离子刻蚀系统，配套有淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品.具有不锈钢柜子以及1......
NRE-3500（M）RIE反应离子刻蚀机概述：独立式RIE反应离子刻蚀系统，淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品.具有不锈钢柜子以及13"的上盖式圆柱......
NRE-3500（M）反应离子刻蚀机概述：独立式RIE反应离子刻蚀系统，淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品.具有不锈钢柜子以及13"的上盖式圆柱形铝腔......
NRE-3500（A）全自动反应离子刻蚀机概述：独立式RIE反应离子刻蚀系统，淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品.具有不锈钢柜子以及13"的上盖式圆柱......
NRE-3000 反应离子刻蚀机概述：独立式RIE反应离子刻蚀系统，淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品.具有不锈钢柜子以及13"的上盖式圆柱形铝腔,便......
NPC-4000（M）等离子去胶机（刻蚀机）概述：NANO-MASTER 等离子去胶和清洗系统是专门设计用来满足晶圆批处理或者单晶片处理的广泛应用，从......
NPC-4000(A)全自动等离子去胶机(刻蚀机)概述：NANO-MASTER 等离子刻蚀和清洗系统是专门设计用来满足晶圆批处理或者单晶片处理的广泛应......
NPC-3500（M）等离子去胶机(刻蚀机)概述：NANO-MASTER 等离子去胶和清洗系统是专门设计用来满足晶圆批处理或者单晶片处理的广泛应用，从......
NPC-3500(A)全自动等离子去胶机(刻蚀机)概述：NANO-MASTER 等离子刻蚀和清洗系统是专门设计用来满足晶圆批处理或者单晶片处理的广泛应......
NPC-3000等离子去胶机(刻蚀机)概述：NANO-MASTER 等离子去胶和清洗系统是专门设计用来满足晶圆批处理或者单晶片处理的广泛应用，从晶圆的......
NIE-4000（M）IBE离子束刻蚀产品概述：如铜和金等金属不含挥发性化合物，这些金属的刻蚀无法在RIE系统中完成。然而通过加速的Ar离子进行物理刻蚀则是可能......
NIE-4000（A）全自动IBE离子束刻蚀产品概述：如铜和金等金属不含挥发性化合物，这些金属的刻蚀无法在RIE系统中完成。然而通过加速的Ar离子进行物理刻蚀则......
NIE-4000（R）RIBE反应离子束刻蚀产品概述：如铜和金等金属不含挥发性化合物，这些金属的刻蚀无法在RIE系统中完成。然而通过加速的Ar离子进行物理刻蚀则......
NIE-3500（M）离子束清洗系统产品概述：该系统为计算机全自动实现工艺控制的紧凑型独立的立柜式离子束刻蚀系统，具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模块化设......
NIE-3500（A）全自动IBE离子束刻蚀产品概述：该系统为全自动上下载片，并且通过计算机全自动实现工艺控制的紧凑型独立的立柜式离子束刻蚀系统，系统具有结构紧......
NIE-3000IBE离子束刻蚀产品概述：该系统为手动放片取片，但通过计算机全自动实现工艺控制的台式离子束刻蚀系统，系统具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模......
NRE-4000（ICPA）全自动ICP刻蚀系统概述：自动上下载片，是带ICP等离子源和偏压样品台的高速刻蚀系统，具有高速率、低损伤、高深宽比的刻蚀能力。可实现......
NDR-4000（A）全自动DRIE深反应离子刻蚀概述：全自动上下载片，带低温晶圆片冷却和偏压样品台的深硅刻蚀系统，带8" ICP源。系统可以配套50......
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