NSC-4000 (A) 全自动磁控溅射系统

NSC-4000（A）全自动磁控溅射系统概述：带有水冷或者加热(可加热到700度)功能，可达到6"旋转平台，支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10^-7 Torr，15分钟内可以达到10^-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度。

NSC-4000（A）带有14”立方形不锈钢腔体，4个2”的磁控管，DC直流和RF射频电源。 在选配方面，350 l/s涡轮分子泵，额外的磁控管和衬底加热功能。

NSC-4000（A）全自动磁控溅射系统产品特点：

·         不锈钢腔体

·         260l/s或350l/s的涡轮分子泵，串接机械泵或干泵

·         13.56MHz，300-600W RF射频电源以及1KW DC直流电源

·         晶振夹具具有的<1 ?的厚度分辨率

·         带观察视窗的腔门易于上下载片

·         基于LabView软件的PC计算机控制

·         带密码保护功能的多级访问控制

·         完全的安全联锁功能

·         预真空锁以及自动晶圆片上/下载片

选配项：

·         RF、DC溅射

·         热蒸镀能力

·         RF或DC偏压（1000V）

·         样品台可加热到700°C

·         膜厚监测仪

·         基片的RF射频等离子清洗

应用：

·         晶圆片、陶瓷片、玻璃白片以及磁头等的金属以及介质涂覆

·         光学以及ITO涂覆

·         带高温样品台和脉冲DC电源的硬涂覆

·         带RF射频等离子放电的反应溅射

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途