NEE-4000（A）全自动电子束蒸发系统：NEE-4000电子束蒸发系统为双腔配置，样品台位于主腔体，二级腔体则用于安置电子束源。两腔体之间的门阀作为预真空锁，使得电子束源腔体保持真空的情况下，通过主腔放入基片到样平台（或夹具）上或从中取出。自动装/卸载基片可通过第三方的预真空锁实现。通过PC计算

NM的PECVD能够沉积高质量SiO2, Si3N4, DLC膜到Z大可达6" 基片.淋浴头电极或中空阴极射频等离子源，样品台通过RF或脉冲DC产生偏压。可支持加热和冷却.使用250l/sec涡轮分子泵及3.5 cfm的机械泵，真空可低至10-7 torr。标准配置含1路惰性气体

磁控溅射系统：带有水冷或者加热（可加热到700度）功能，可达到到8“旋转平台，支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度。

NANO-MASTER 产品资料，包含ALD原子层沉积系统、IBE离子束刻蚀系统、PAMOCVD、PECVD、RIE反应离子刻蚀、Sputter磁控溅射系统、光学涂覆系统、双系统、热蒸发镀膜及电子束蒸发镀膜系统、湿法清洗去胶刻蚀系统等。