技术指标：

坩埚大小:1cc；2cc，（其它体积定制）

可实现的金属层厚度: > 500 nm per load at distance 250 mm

通常（zei大）沉积速度:1 nm/sec (10 nm/sec) at distance 250 mm

加热系统:带坩埚的陶瓷容器

选项：标准金属容器（可替换）

温度范围:300°C ~ 1700°C

电源要求:电压 < 10 V (typ. 9 V)；电流 < 200 A (typ. 110 A)；功率 up to 2 kW

冷却水:approx. 15 l /min

选项：

• 陶瓷容器；金属容器

• 可弯曲的金属管用于冷却系统，免工具操作

• 与有机物升华器的联合装配

微型金属升华器专为实验室研究或微小规模的制备而设计，可以装配高真空或超高真空系统，主要用于沉积制备金属层。

特殊设计的升华器核心构成为传导效率很高的陶瓷容器，同时包括一个嵌入的坩埚。两种材料均能够承受金属的溶解过程。坩埚的材料可以所所升华金属的不同而选择。

微型金属升华器信息由赛普泰克有限公司为您提供，如您想了解更多关于微型金属升华器报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。

注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途