大塚电子椭偏仪FE-5000

FE-5000椭圆偏振光测量仪

纳米级的薄膜膜厚测量

·非接触非破坏实现多层膜的解析

材料表面光学常数（折光率、消光系数）测量

·可求得膜厚以及光学定数的波长分散

（膜厚，折射率，消光系数，tanΨ、cosΔ）

·提供膜厚管理膜质管理有用的信息

通过400ch以上的多通道光谱法，迅速测量椭圆光谱

·可实现一分钟以内的高速测量

·光谱点多，所以坡度大的椭圆光谱也可正确测量

利用多波长光谱仪实现高精度高感度测量

测量反射角度可变，对应薄膜的高精度解析

可对应特制解析的材料物性和多层膜的高度评价

·利用多层膜fitting解析的光学常数测量实现了膜厚膜质管理

·利用有效媒质近似（EMA）可测量复素折射率的波长分散，混合结晶的混合比，界面的厚度等。

·利用各种光学常数函数和膜model解析，可对应薄膜界面等材料物性评价

·通过光学常数数据基础化和菜单登陆功能，改善了操作性

应用范围：

·FPD（LCD,PDP,FED,有机EL）

·半导体（a-Si,poly-Si等）

·复合半导体（半导体激光，强电介质）

·数据储存（DVD,HDD,磁气头)

·光学材料（膜，防反射膜）

·膜（AR膜）

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途