Mono- and Multi-crystalline wafer and brick lifetime measurement device

应用范围：用于常规质量控制、精密材料研发的单晶和多晶片及晶锭的寿命测量

根据SEMI标准PV9-1110的非接触式和无损成像(μPCD / MDP(QSS))、光电导性、电阻率和p/n检查。

晶圆切割，炉内监控，材料优化等。

日常寿命测量，质量控制和检验
 
◆产量：>240块/天或>720片/天
◆测量速度：对于156x156x400mm标准晶锭，<4分钟
◆生产改善：1mm切割标准为156x156x400mm标准晶锭
◆质量控制：用于过程和材料的质量监控，如单晶硅或多晶硅
◆污染测定：起源于炉和设备的金属(Fe)
◆可靠性：模块化和坚固耐用的工业仪器，更高的可靠性和运行时间> 99%
◆可重复性:> 99.5%
◆电阻率：不需要经常校准

精密材料研发

铁浓度测定

陷阱浓度测定

硼氧测定

依赖于注入的测量等

特性

完全无触点无破坏的半导体特性
特殊的“表面之下”寿命测量技术
不可见缺陷的 灵敏度的可视化
自动切割标准定义
空间分辨p/n电导型变换检测

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途